薄膜晶体管及其制造方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113345966A

    公开(公告)日:2021-09-03

    申请号:CN202110182022.4

    申请日:2021-02-09

    Abstract: 本发明的薄膜晶体管包括:主体层,其为在栅极电极上隔着栅极绝缘膜形成的半导体层,且在栅极电极的上方包含:第一区域、第二区域以及位于第一区域以及第二区域之间的沟道区域;沟道阻挡物,其形成在沟道区域上;源极电极,其经由第一接触层与第一区域电连接;以及漏极电极,其经由第二接触层与第二区域电连接。第一接触层以及第二接触层分别包含第一非晶硅层,该第一非晶硅层与源极电极或漏极电极直接接触且包含有杂质,第一区域以及第二区域的各自的厚度小于沟道区域的厚度,第一区域以及第二区域包含有第二非晶硅层,该第二非晶硅层以比第一非晶硅层低的杂质浓度包含有杂质。结果,当抑制光激励电流地制成显示装置时,可以提高开口率。

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