半导体存储装置及其制造方法以及便携式电子设备

    公开(公告)号:CN100524769C

    公开(公告)日:2009-08-05

    申请号:CN200510087825.2

    申请日:2005-06-03

    摘要: 一种半导体存储装置,在半导体衬底上,具有通过栅极绝缘膜形成的单一栅电极以及在栅电极两侧形成的第1、第2存储器功能体。在半导体衬底的栅电极侧表面部形成P型沟道区域,在沟道区域两侧形成N型第1、第2扩散区域。沟道区域由位于第1、第2存储器功能体下的偏移区域和位于栅电极下的栅电极下区域构成。赋予偏移区域P型导电型的杂质浓度有效地稀于赋予栅电极下区域P型导电型的杂质的浓度。因此,可以实现栅电极的薄膜化,提供易于精细化的半导体存储装置。

    半导体存储装置及其制造方法以及便携式电子设备

    公开(公告)号:CN1707800A

    公开(公告)日:2005-12-14

    申请号:CN200510087825.2

    申请日:2005-06-03

    摘要: 一种半导体存储装置,在半导体衬底上,具有通过栅极绝缘膜形成的单一栅电极以及在栅电极两侧形成的第1、第2存储器功能体。在半导体衬底的栅电极侧表面部形成P型沟道区域,在沟道区域两侧形成N型第1、第2扩散区域。沟道区域由位于第1、第2存储器功能体下的偏移区域和位于栅电极下的栅电极下区域构成。赋予偏移区域P型导电型的杂质浓度有效地稀于赋予栅电极下区域P型导电型的杂质的浓度。因此,可以实现栅电极的薄膜化,提供易于精细化的半导体存储装置。