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公开(公告)号：CN118318190A
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202380014714.5
申请日：2023-04-25
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B5/02 , B32B3/30 , B32B7/023 , B32B27/16 , B32B27/18 , G02B1/111 , G02B1/115 , G02F1/1335 , G09F9/00
Abstract: 提供防眩性优异、且能够抑制因反射散射光所引起的漆黑感的降低、并且耐擦伤性良好的光学膜。一种光学膜，其中，所述光学膜具有凹凸表面，关于所述凹凸表面，由ISO 25178‑2：2012所规定的突出峰部实体体积Vmp为0.010ml/m2以上且0.050ml/m2以下，由ISO 25178‑2：2012所规定的最小自相关长度Sal为4.0μm以上且12.0μm以下。
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公开(公告)号：CN102713686B
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201080057928.3
申请日：2010-12-22
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B1/10
CPC classification number: G02B1/14 , G02B1/105 , G02B1/16 , Y10T428/264
Abstract: 本发明提供具有硬度和耐溶剂擦拭性，且可长期持续抗静电性能的光学薄膜及其制造方法。本发明是在透光性基材的一侧设置膜厚1～40μm的硬涂层的光学薄膜，其特征为在所述硬涂层中包含含有阳离子和阴离子的离子液体；在所述硬涂层的膜厚方向上，在从所述硬涂层的所述透光性基材相反侧的界面起算的50～700nm的区域中，存在有从所述界面起至700nm为止的区域中存在的所述离子液体的存在量的峰值。
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公开(公告)号：CN104101915B
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201410299390.7
申请日：2010-12-22
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: G02B1/14 , G02B1/105 , G02B1/16 , Y10T428/264
Abstract: 本发明提供具有硬度和耐溶剂擦拭性，且可长期持续抗静电性能的光学薄膜及其制造方法。本发明是在透光性基材的一侧设置膜厚1～40μm的硬涂层的光学薄膜，其特征为在所述硬涂层中包含含有阳离子和阴离子的离子液体；在所述硬涂层的膜厚方向上，在从所述硬涂层的所述透光性基材相反侧的界面起算的50～700nm的区域中，存在有从所述界面起至700nm为止的区域中存在的所述离子液体的存在量的峰值。
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公开(公告)号：CN118625429A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202410847055.X
申请日：2023-04-25
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B5/02 , G09F9/00 , B32B7/02 , C08J7/04 , C08J7/043 , C08J7/046 , C09D133/14 , C09D4/06 , C09D5/00 , C09D7/62 , C09D7/40
Abstract: 本发明提供光学膜、图像显示面板以及图像显示装置。一种光学膜，其中，所述光学膜具有凹凸表面，关于所述凹凸表面，由ISO 25178‑2：2012所规定的突出峰部实体体积Vmp为0.010ml/m2以上且0.050ml/m2以下，由ISO 25178‑2：2012所规定的最小自相关长度Sal为4.0μm以上且12.0μm以下。
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公开(公告)号：CN102667534B
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201080051681.4
申请日：2010-11-30
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B1/10 , B05D1/34 , B05D5/06 , B32B7/02 , B32B23/08 , B32B27/20 , B32B27/30 , G02B1/11 , G02B5/30 , G02F1/1335 , G09F9/00
CPC classification number: B29D11/00644 , B05D1/34 , C08J7/047 , C08J2301/12 , C08J2433/06 , G02B3/0087 , G02B5/305 , G02F1/133528 , G02F2201/38 , G02F2201/50 , G02F2202/023 , G02F2202/36 , G02F2202/40
Abstract: 本发明以更加容易、且高生产率提供具备折射率倾斜硬涂层的光学薄膜为目的。本发明的光学薄膜的制造方法，其特征为包含：(i)准备透光性基材的工序；(ii)准备含有第一粘合剂成分及第一溶剂、不含有高折射率微粒且粘度为3～100mPa·s的第一硬涂层用固化性树脂组合物，以及含有平均粒径1～100nm的高折射率微粒、第二粘合剂成分及第二溶剂且粘度为10～100mPa·s的第二硬涂层用固化性树脂组合物的工序；(iii)在所述透光性基材的一侧，从所述透光性基材侧开始，以使所述第一硬涂层用固化性树脂组合物及所述第二硬涂层用固化性树脂组合物邻接，且所述第一硬涂层用固化性树脂组合物比所述第二硬涂层用固化性树脂组合物更靠近所述透光性基材侧的方式进行同时涂布，来制作涂膜的工序；以及(iv)对所述(iii)工序中得到的涂膜进行光照射使之固化，形成折射率倾斜硬涂层的工序。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118318189A
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202380014703.7
申请日：2023-04-25
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B5/02 , B32B3/30 , B32B7/023 , B32B27/16 , B32B27/18 , G02B1/111 , G02B1/115 , G02F1/1335 , G09F9/00
Abstract: 本发明提供在防眩性和耐擦伤性上优异、且能够抑制反射散射光的光学膜。一种光学膜,其中，所述光学膜具有凹凸表面，关于所述凹凸表面，由ISO 25178‑2：2012所规定的界面的展开面积比Sdr为0.010以上且0.060以下，由ISO 25178‑2：2012所规定的最小自相关长度Sal为4.0μm以上且12.0μm以下。
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公开(公告)号：CN104101915A
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：CN201410299390.7
申请日：2010-12-22
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: G02B1/14 , G02B1/105 , G02B1/16 , Y10T428/264
Abstract: 本发明提供具有硬度和耐溶剂擦拭性，且可长期持续抗静电性能的光学薄膜及其制造方法。本发明是在透光性基材的一侧设置膜厚1～40μm的硬涂层的光学薄膜，其特征为在所述硬涂层中包含含有阳离子和阴离子的离子液体；在所述硬涂层的膜厚方向上，在从所述硬涂层的所述透光性基材相反侧的界面起算的50～700nm的区域中，存在有从所述界面起至700nm为止的区域中存在的所述离子液体的存在量的峰值。
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公开(公告)号：CN102713686A
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201080057928.3
申请日：2010-12-22
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B1/10
CPC classification number: G02B1/14 , G02B1/105 , G02B1/16 , Y10T428/264
Abstract: 本发明提供具有硬度和耐溶剂擦拭性，且可长期持续抗静电性能的光学薄膜及其制造方法。本发明是在透光性基材的一侧设置膜厚1～40μm的硬涂层的光学薄膜，其特征为在所述硬涂层中包含含有阳离子和阴离子的离子液体；在所述硬涂层的膜厚方向上，在从所述硬涂层的所述透光性基材相反侧的界面起算的50～700nm的区域中，存在有从所述界面起至700nm为止的区域中存在的所述离子液体的存在量的峰值。
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公开(公告)号：CN102667534A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080051681.4
申请日：2010-11-30
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B1/10 , B05D1/34 , B05D5/06 , B32B7/02 , B32B23/08 , B32B27/20 , B32B27/30 , G02B1/11 , G02B5/30 , G02F1/1335 , G09F9/00
CPC classification number: B29D11/00644 , B05D1/34 , C08J7/047 , C08J2301/12 , C08J2433/06 , G02B3/0087 , G02B5/305 , G02F1/133528 , G02F2201/38 , G02F2201/50 , G02F2202/023 , G02F2202/36 , G02F2202/40
Abstract: 本发明以更加容易、且高生产率提供具备折射率倾斜硬涂层的光学薄膜为目的。本发明的光学薄膜的制造方法，其特征为包含：(i)准备透光性基材的工序；(ii)准备含有第一粘合剂成分及第一溶剂、不含有高折射率微粒且粘度为3～100mPa·s的第一硬涂层用固化性树脂组合物，以及含有平均粒径1～100nm的高折射率微粒、第二粘合剂成分及第二溶剂且粘度为10～100mPa·s的第二硬涂层用固化性树脂组合物的工序；(iii)在所述透光性基材的一侧，从所述透光性基材侧开始，以使所述第一硬涂层用固化性树脂组合物及所述第二硬涂层用固化性树脂组合物邻接，且所述第一硬涂层用固化性树脂组合物比所述第二硬涂层用固化性树脂组合物更靠近所述透光性基材侧的方式进行同时涂布，来制作涂膜的工序；以及(iv)对所述(iii)工序中得到的涂膜进行光照射使之固化，形成折射率倾斜硬涂层的工序。
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公开(公告)号：CN118625429B
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202410847055.X
申请日：2023-04-25
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B5/02 , G09F9/00 , B32B7/02 , C08J7/04 , C08J7/043 , C08J7/046 , C09D133/14 , C09D4/06 , C09D5/00 , C09D7/62 , C09D7/40
Abstract: 本发明提供光学膜、图像显示面板以及图像显示装置。一种光学膜，其中，所述光学膜具有凹凸表面，关于所述凹凸表面，由ISO 25178‑2：2012所规定的突出峰部实体体积Vmp为0.010ml/m2以上且0.050ml/m2以下，由ISO 25178‑2：2012所规定的最小自相关长度Sal为4.0μm以上且12.0μm以下。
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