公开(公告)号：CN1400635A

公开(公告)日：2003-03-05

申请号：CN02127003.1

申请日：2002-07-25

申请人： 大日本网目版制造株式会社

发明人： 岩田智巳 ,  村冈祐介 ,  齐藤公续 ,  沟端一国雄 ,  三宅孝志 ,  北门龙治

IPC分类号： H01L21/304 ,  H01L21/306 ,  B08B3/00

CPC分类号： H01L21/67161 ,  C03C15/00 ,  C03C23/0075 ,  C03C23/0085 ,  H01L21/67173

摘要： 本发明涉及在个别地配置了向通过主运送机构运送的基板提供处理液进行湿式表面处理的湿式处理单元和向通过湿式处理单元进行湿式表面处理的基板表面通过处理流体进行表面处理的高压处理单元的基板处理装置中，防止将基板从湿式处理单元运送到前述高压处理单元期间处理液对主运送机构的浸湿和污染。对于显像处理单元的任一单元，主运送路，显像处理单元，专用运送自动机及高压处理单元按此顺序在Y方向呈直线状配置。在将被处理液浸湿的基板运送到高压处理单元期间，即使基板上附着的处理液或其蒸发物移动到主运送路侧，直到主运送路为止要经过显像处理单元。

公开(公告)号：CN1173387C

公开(公告)日：2004-10-27

申请号：CN02127003.1

申请日：2002-07-25

申请人： 大日本网目版制造株式会社

发明人： 岩田智巳 ,  村冈祐介 ,  齐藤公续 ,  沟端一国雄 ,  三宅孝志 ,  北门龙治

IPC分类号： H01L21/304 ,  H01L21/306 ,  B08B3/00

CPC分类号： H01L21/67161 ,  C03C15/00 ,  C03C23/0075 ,  C03C23/0085 ,  H01L21/67173

摘要： 本发明涉及在个别地配置了向通过主运送机构运送的基板提供处理液进行湿式表面处理的湿式处理单元和向通过湿式处理单元进行湿式表面处理的基板表面通过处理流体进行表面处理的高压处理单元的基板处理装置中，防止将基板从湿式处理单元运送到前述高压处理单元期间处理液对主运送机构的浸湿和污染。对于显像处理单元的任一单元，主运送路，显像处理单元，专用运送自动机及高压处理单元按此顺序在Y方向呈直线状配置。在将被处理液浸湿的基板运送到高压处理单元期间，即使基板上附着的处理液或其蒸发物移动到主运送路侧，直到主运送路为止要经过显像处理单元。