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公开(公告)号：CN116276466A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310157999.X
申请日：2023-02-23
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明公开了一种用于三棱镜智能化抛光的夹具系统，包括总进气管、直通旋转接头、系统电源、固定架、配重块、夹具单元、强力磁铁板和保持架；所述夹具单元沿周向均布在配重块内部；所述夹具单元包括电磁铁模块、电磁阀、主进气管、推杆进气管、气动推杆、力传感器、球笼万向节、水平仪、夹具框架、旋转轴和夹板。本发明通过可调角度的夹板及夹具单元的调平系统可在抛光过程中实现对不同种类三棱镜的夹持及其待加工面在三维空间的快速动态调平；本发明保证了夹具在旋转的同时仍可获得稳定气压；本发明的控制系统基于水平仪及力传感器的反馈信号，通过电磁阀动态控制气动推杆的伸缩及配重块的配合，达到了异常工况时保护工件表面的目的。
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公开(公告)号：CN116690392A
公开(公告)日：2023-09-05
申请号：CN202310650158.2
申请日：2023-06-02
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明公开了一种多场复合非接触抛光装置与方法，可通过温度场、电场、磁场、化学场、机械场多场复合下实现工件高效率和高质量的抛光，温度控制系统可以实现非接触抛光液温度的恒定控制，保证抛光进程中抛光液始终在恒定的温度场中保持良好的剪切增稠效应。交变电源在介电介质中极化的磨粒受到介电泳力产生运动，防止在抛光进程中大部分磨粒的沉降，提高抛光去除率。在抛光工具和工件之间施加一个磁场，促使抛光液中磁性磨粒吸附于工件被加工表面，使磨粒能更多地进入到工件复杂表面的角落中，并增大抛光时磨粒对工件表面的压力，提高抛光效率。抛光液中的氧化剂通过磨粒的机械作用去除表面氧化层，这样周而复始最终可达到高质量的表面。
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公开(公告)号：CN118288183A
公开(公告)日：2024-07-05
申请号：CN202410522165.9
申请日：2024-04-28
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明公开了一种波导器件的抛光装置及方法，所述装置包括底座、旋转电机、仿形磨具、磁敏垫、研磨垫/抛光垫、音圈电机、自动定心夹具、激光测头、伸缩杆、XY位移平台、定位块；所述方法包括研磨成形、测量面形、粗抛光、测量表面粗糙度、精抛光、测量表面粗糙度、超声清洗。本发明提出了波导器件研磨成形、精密抛光的完整工艺流程，加工效率高，可以在短时间内获得高质量、高性能的波导器件。本发明的加工过程智能化、自动化，通过激光测头与磁敏垫可以实现波导器件加工过程中面形的在位测量，并可以通过测量反馈信息对仿形磨具面形进行实时纠正，进而实现光学波导器件面形的精准在线把控，并避免了拆卸测量，操作方便。
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公开(公告)号：CN118204899A
公开(公告)日：2024-06-18
申请号：CN202410522163.X
申请日：2024-04-28
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明公开了一种尖晶石晶体超光滑抛光方法，优选了各工艺阶段的加工环境与参数，并依次配置了两个抛光阶段的环保抛光液，可以快速地将晶体表面粗糙度收敛至亚纳米级，且表面无损伤缺陷，整个过程操作方便、容易。本发明以“研磨‑半精抛‑精抛”的工艺流程来实现，整个加工过程在1h以内，加工效率高，也避免了因去除粗研、粗抛等过程引入的过度损伤而消耗大量工时，操作方便，节省原料。本发明通过优选固结磨料研磨垫，并调节适宜工艺参数，可快速去除晶体表面前序工序所遗留的崩裂、刀纹等缺陷，并实现晶片的快速平坦化与减薄。本发明提出的尖晶石晶体精抛光工艺及相应的精抛抛光液，可以进一步提升尖晶石晶体的表面质量。
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公开(公告)号：CN116766024A
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202310650159.7
申请日：2023-06-02
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明公开了一种适用于非接触抛光的抛光液精准供给系统，包括主控制器、抛光液循环泵、流量计、集液槽、回流管路、供液桶、冷凝管、粘度计、水槽、电磁阀和热电偶。抛光前，在主控制器上设定抛光液的供给流量、粘度和温度等参数；待抛光液供给流量稳定后，启动抛光主轴，对工件进行非接触抛光。当抛光液温度超过提前预设的温度时，冷却水泵自动开启，向冷凝管内通入冷却水，降低抛光液温度。当抛光液粘度超过提前预设的粘度时，电磁阀自动开启，将水槽内的去离子水按照一定的速度注入供液桶内，调节抛光液的粘度。抛光过程中，抛光液的流量、粘度和温度始终处于一个相对稳定的状态，具有较好的剪切增稠效应，最终实现工件的高效、高质量抛光。
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