公开(公告)号：CN119761028A

公开(公告)日：2025-04-04

申请号：CN202411879103.X

申请日：2024-12-19

Applicant: 大连理工大学

Inventor： 刘伟嵬 ,  安妮 ,  宋建融 ,  刘焕强 ,  祁俊征 ,  李涛 ,  刘淑杰 ,  张洪潮

IPC: G06F30/20 ,  G06F111/10 ,  G06F113/08

Abstract: 本发明属于物理气相沉积成形精度技术领域，公开了一种磁控溅射铝锡涂层几何与性能特征预测方法，基于独立变量控制策略系统考察溅射功率、基底偏压、溅射气压和靶基距这些工艺参数对铝锡合金涂层性能的影响，揭示不同工艺参数作用下铝锡涂层形性变化规律；基于响应曲面实验设计理论及多因素优化理论，探寻多工艺参数下涂层工艺‑性能的映射机制；建立包含工艺参数与涂层几何与性能特征的特征数据库；基于涂层特征目标值的涂层工艺参数优化，明晰工艺耦合作用下的涂层形性质量变化规律并优化其工艺参数。本发明可快速精确地建立工艺参数与涂层几何特征的映射模型,工艺成本低、效率高、精度可控。