一种连续的Ni(OH)2纳米片层修饰隔膜的制备方法及应用

    公开(公告)号:CN110957453A

    公开(公告)日:2020-04-03

    申请号:CN201911247160.5

    申请日:2019-12-09

    Abstract: 本发明公开一种连续的Ni(OH)2纳米片层修饰隔膜的制备方法及应用。基底为商用的聚丙烯隔膜,其上涂覆Super P、炭黑等材料层,得到涂炭隔膜;再利用简单的水热法,于涂炭隔膜的表面原位生长一层连续的Ni(OH)2纳米片层。这种连续的Ni(OH)2纳米片层修饰的隔膜的有益效果为:1)连续的Ni(OH)2纳米片层使得多硫化物不能够穿过隔膜,从而极大的减弱了穿梭效应;2)锂离子可以很容易的穿过Ni(OH)2纳米片层,保证了电池的倍率性能。这样在不影响电池正常倍率性能的前提下,阻止了可溶于电解液的多硫化物的穿梭,从而极大的减弱了穿梭效应。

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