一种以内孔为基准提高零件外圆柱面精度的镗研装置

    公开(公告)号:CN114434227B

    公开(公告)日:2022-11-22

    申请号:CN202210117436.3

    申请日:2022-02-08

    Abstract: 一种以内孔为基准提高零件外圆柱面精度的镗研装置,包括回转轴,连接板,V型、T型研磨块,密珠轴套,密封套。所述回转轴中的夹持轴段可通过机床卡盘夹紧;连接板安装法兰用于安装连接板;工件安装基准轴段与密珠轴套和零件内孔相配合。所述连接板两端用于安装两个研磨块。工作时手持工件不动或绕回转轴轴线缓慢转动,两研磨块随回转轴绕零件外圆柱面低速转动,实现以零件内孔为基准对其外圆柱面的镗研加工。本发明可有效地减小零件外圆柱面的圆度误差、表面粗糙度及相对内孔的圆跳误差;可根据工件大小和研磨材料厚度调整研磨块位置,结构简单,安装方便;可通过更换不同尺寸的连接板和芯轴调整零件加工范围,适应性强,可直接在车床上使用。

    一种用于薄片研抛的无动力真空吸附装置

    公开(公告)号:CN114131503A

    公开(公告)日:2022-03-04

    申请号:CN202111359254.9

    申请日:2021-11-17

    Abstract: 本发明属于精密加工技术领域,提供一种用于薄片研抛的无动力真空吸附装置,通过调压筒调节筒内真空度,利用真空吸附薄片工件进行研磨或抛光。在研抛过程中调压筒内的真空度会逐渐变小,使薄片工件的吸附力减小,该现象有利于薄片工件吸附应力的释放,进而提高薄片零件研抛的平面精度;本专利通过螺纹抬升活塞的高度来调节调压筒内的真空度,无需额外吸附动力源,节能环保,使用便携,既可以手持研抛,也可以放置在环抛机上进行自动研抛,可用于芯片级硅片的超精密研抛加工,具有重要的推广应用价值。

    一种外圆柱面研抛装置及使用方法

    公开(公告)号:CN113752105A

    公开(公告)日:2021-12-07

    申请号:CN202111128787.6

    申请日:2021-09-26

    Abstract: 本发明提供一种外圆柱面研抛装置及使用方法,属于精密加工技术领域。本发明结构简单,可配合不同轴系实现轴类零件或盘类零件外圆柱面的精密研抛,可同时加工一个或多个同尺寸工件。符合圆柱表面的成型原理,既:母线绕固定轴线回转。可加工任意尺寸外圆柱面,且加工过程中无需进刀,利用工件的弹性变形实现自动连续的微量进刀,即可完成研抛工艺。该装置仅对精密油石的工作面有直线度要求,夹具体的平面度、垂直度、平行度等对于研抛过程影响不大。油石不与夹具体直接接触,避免因夹紧力过大损坏油石。采用本装置研抛后的工件,圆度误差可达到亚微米量级,粗糙度可达到几十纳米量级,且具有成本低廉,操作简单,调整方便等优点,具有重要的推广应用价值。

    一种导柱型弹簧夹具
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113305756A

    公开(公告)日:2021-08-27

    申请号:CN202110609172.9

    申请日:2021-06-01

    Abstract: 本发明属于装配技术领域,提供了一种导柱型弹簧夹具。其结构包括:上压板、导向用衬套、导向轴、下压板、弹簧支柱、拉簧、导向用密珠轴套和螺钉。一种导柱型弹簧夹具可以实现在夹紧情况下调整夹持两平行面间的距离,通过调整更换不同长度与载荷的拉伸弹簧可以实现在夹持方向上零件间距离的变化,在导向组件的高精度导向作用下,通过拉簧的弹力作用实现夹紧;且钢球与工件表面弹性接触,不易损伤工件表面,保护工件表面完整,具有良好的市场价值。

    一种小晶粒FeY分子筛及其制备方法

    公开(公告)号:CN102745713B

    公开(公告)日:2014-10-29

    申请号:CN201210239860.1

    申请日:2012-07-11

    Inventor: 纪敏 杨洋 安永林

    Abstract: 本发明涉及一种小晶粒FeY分子筛及其制备方法,属于催化剂制备领域,具体属于沸石分子筛制备领域。本发明提供一种小晶粒FeY分子筛的制备方法,不采用任何导向剂和有机模板剂,常温制备所需的含铁的硅铝凝胶,一次自导向晶化合成出骨架含Fe的Y分子筛,且晶化时间短,晶粒度小。

    分子内带有吩噻嗪供电基团的联吡啶钌/锇ECL标记物

    公开(公告)号:CN101531683B

    公开(公告)日:2012-05-23

    申请号:CN200910011139.5

    申请日:2009-04-09

    CPC classification number: C09B21/00 C09B57/10

    Abstract: 本发明属于精细化工领域,具体涉及一种分子内带有吩噻嗪供电基团的联吡啶钌/锇ECL标记物。分子内带有吩噻嗪供电基团的联吡啶钌/锇ECL标记物具有下列结构通式:M(L)2L′通式中:M为Ru或Os;L选自任意的2,2′-联吡啶及其衍生物或者1,10-邻菲咯啉(二氮杂菲)及其衍生物,L′选自以下配体:式中:B为-(CH2)n-,其中n为整数1-10或者在任意位置存在酰胺键基团的烷基链-(CH2)n-,烷基链总碳数n为整数1-10;P为吩噻嗪(PTZ)或H。本发明将具有可逆氧化还原活性的电子供体吩噻嗪(PTZ)引入到联吡啶钌/锇ECL标记物结构中,对联吡啶钌/锇配体结构进行修饰,利用分子内和分子间的协同作用,降低胺类共反应物的用量,减少背景干扰,使ECL得到大大增强。

    一种等公法线齿轮渐开线样板的精密抛光装置

    公开(公告)号:CN113977009B

    公开(公告)日:2022-09-06

    申请号:CN202111246076.9

    申请日:2021-10-26

    Abstract: 本发明属于精密加工技术领域,依据等公法线齿轮渐开线样板公法线长度不变的特征,提供一种等公法线齿轮渐开线样板的精密抛光装置,所述精密抛光装置通过在滑板不同位置上安装抛光块来实现不同规格的等公法线齿轮渐开线样板的抛光;利用一对往复直线运动的抛光块与自由转动的等公法线齿轮渐开线样板间的相对滑动,同步实现两渐开线齿面的抛光。采用该装置可在一定程度上可以改善齿廓精度,并且减小齿面的表面粗糙度Ra值至几十纳米量级。本发明提供的精密抛光装置,具有加工成本低、效率高、操作简单、抛光效果显著的优点;采用该装置可在一定程度上可以改善齿廓精度,并且减小齿面的表面粗糙度Ra值至几十纳米量级;具有重要的推广应用价值。

    一种外圆柱面研抛装置及使用方法

    公开(公告)号:CN113752105B

    公开(公告)日:2022-08-05

    申请号:CN202111128787.6

    申请日:2021-09-26

    Abstract: 本发明提供一种外圆柱面研抛装置及使用方法,属于精密加工技术领域。本发明结构简单,可配合不同轴系实现轴类零件或盘类零件外圆柱面的精密研抛,可同时加工一个或多个同尺寸工件。符合圆柱表面的成型原理,既:母线绕固定轴线回转。可加工任意尺寸外圆柱面,且加工过程中无需进刀,利用工件的弹性变形实现自动连续的微量进刀,即可完成研抛工艺。该装置仅对精密油石的工作面有直线度要求,夹具体的平面度、垂直度、平行度等对于研抛过程影响不大。油石不与夹具体直接接触,避免因夹紧力过大损坏油石。采用本装置研抛后的工件,圆度误差可达到亚微米量级,粗糙度可达到几十纳米量级,且具有成本低廉,操作简单,调整方便等优点,具有重要的推广应用价值。

    一种用于高精度渐开线纯滚动展成装置的线轮驱动机构

    公开(公告)号:CN113478026B

    公开(公告)日:2022-06-14

    申请号:CN202110734391.X

    申请日:2021-06-30

    Abstract: 本发明属于精密加工和测试技术领域,涉及一种用于高精度渐开线纯滚动展成装置的线轮驱动机构。其结构包括:线轮驱动组件、电动直线滑台、L板、立柱滑台、立柱底座和平台;通过电动直线滑台带动线轮驱动组件运动,进而利用钢丝绳缠绕在线轮绳槽中产生的摩擦力矩驱动滚动组件在导轨上做纯滚动运动;左、右线轮采用同一根钢丝绳缠绕,可保证钢丝绳与左、右线轮间摩擦力矩的一致性;钢丝绳为柔性,可减弱该装置的误差及外界干扰等因素对齿轮渐开线样板加工和测量的影响;通过调整钢丝绳的张紧量可控制摩擦力矩的大小;该装置可用于高精度渐开线纯滚动展成装置的驱动,具有良好的市场应用前景与推广价值。

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