一类锌氧簇化合物在光刻胶领域的应用

    公开(公告)号:CN115407607B

    公开(公告)日:2024-07-26

    申请号:CN202210843159.4

    申请日:2022-07-18

    IPC分类号: G03F7/004 G03F7/16

    摘要: 本发明公开一类锌氧簇化合物在光刻胶领域的应用,其结构通式如A所示;将所述锌氧簇化合物或其组合物用作制备光刻胶,该一体化的光刻胶分子既是光敏剂,又是树脂,合成方法简单,原料简单易得,反应一步即可高产率得到产物,产物纯净,其中苯及其衍生物配体大大提高了锌氧簇在各种溶剂或显影剂中的溶解度,尤其是4‑三氟苯基配体的分子适合绝大多数溶剂,具有很强的工艺包容性,非常适合制备15~100nm不同厚度且均一的光刻胶薄膜。在生产中可以不加任何助剂,实施方便,大大降低了成本。所合成的光刻胶分子具有很高的热稳定性及储存稳定性、烘烤时不析出、光刻中不易变性、较好的成膜性、较低的粘度等,适用于不同类型的光刻技术。#imgabs0#

    一类含氟锡氧簇光刻胶化合物及其在光刻领域的应用

    公开(公告)号:CN118388525A

    公开(公告)日:2024-07-26

    申请号:CN202410481379.6

    申请日:2024-04-22

    IPC分类号: C07F7/22 G03F7/004

    摘要: 本发明涉及一类含氟锡氧簇化合物及其应用。该含氟锡氧簇化合物通过引入氟元素增强了光刻胶材料的化学稳定性,减少了在存储和使用过程中可能发生的化学降解,有助于实现高精度和高分辨率的图案转移,从而提高半导体器件的性能和可靠性。此外,该光刻胶化合物具有优异的溶解性和成膜性,在硅片上形成高质量的薄膜。可应用于电子束光刻、深紫外光刻和极紫外光刻等多个领域。在这些应用中,光刻胶能够提供高分辨率、低LER值和准确的图案转移能力,满足微电子制造工艺的需求。综上所述,本发明提供了一种合成含氟锡氧簇化合物具有高热稳定性、储存稳定性、溶解性和成膜性,适用于多种光刻技术,在微电子制造领域具有重要的应用价值。