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公开(公告)号：CN114473720A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202210100332.1
申请日：2022-01-27
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
摘要： 一种透镜阵列光学元件抛光方法及装置，抛光装置中的结构化抛光头固定在抛光头旋转电机上，通过改变旋转速度调整抛光液剪切速率。抛光头旋转电机通过抛光头角度变换平台与音圈电机连接，音圈电机使抛光过程中抛光头与工件间的抛光力保持恒定。抛光头角度变换平台与三轴联动平台连接，实现结构化抛光头和工件保持恒定的间隙。抛光液槽安装在工件旋转平台上,曲面透镜阵列工件安装在抛光液槽内表面，通过抛光液槽的旋转实现工件的连续均匀抛光。本发明能够实现对透镜阵列光学元件的低损伤甚至无损伤抛光，实现纳米甚至亚纳米粗糙度。另外基于非接触抛光的高柔性特点，提出两种透镜阵列光学元件的抛光方法，提高加工的可控性。
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公开(公告)号：CN114378718A
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN202210100352.9
申请日：2022-01-27
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
IPC分类号： B24B57/02
摘要： 一种非牛顿流体分散装置及方法，属于精密/超精密加工领域。所述分散装置包括连接气管、旋转平台、抛光功能液槽、运动隔离气体接头、气管接头、气压节流阀门。抛光功能液槽与旋转平台相连，待加工工件与抛光功能液槽相连,通过抛光功能液槽的旋转实现非牛顿流体抛光液的均匀分散。所述运动隔离气体接头顶端穿过旋转平台中心通孔，通过管用螺纹与抛光功能液槽连接，其底部通过气管接头与外部气泵连接。使用过程中,抛光液能够不断的由上向下的循环运动，保证抛光液的均匀性。本发明可以解决剪切增稠抛光中非牛顿流体易沉降的难题，该方法简单，装置操作方便；可以通过改变气体流速，实现不同体系的非牛顿流体的分散，且不会对抛光过程造成干扰。
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公开(公告)号：CN113458909A
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202110638414.7
申请日：2021-06-08
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
摘要： 一种光学透镜双面抛光方法，属于超精密加工领域。该双面抛光方法通过在透镜上下位置设置磨具，在抛光过程中磨具贴合透镜上下表面往复摆动，产生相对运动去除表面材料，实现透镜上下表面同时抛光。抛光过程中磨具的运动包括上下磨具的自身转动和上下磨具整体往复摆动，其中上下磨具的自身转动由电机带动完成，摆杆通过万向节带动上下磨具完成其相对于待抛光透镜的圆轨迹摆动。且抛光过程中的采用通过磨具中心供液方式或外部滴液方式进行抛光液供给。本发明为了消除去除不均匀的问题，抛光过程中采用磨具摆动加工和工件翻面抛光的方法，能实现高效率的非平面透镜的双面高精度加工，且该方法可以应用于不同类型透镜的双面抛光。
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公开(公告)号：CN114473720B
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN202210100332.1
申请日：2022-01-27
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
摘要： 一种透镜阵列光学元件抛光方法及装置，抛光装置中的结构化抛光头固定在抛光头旋转电机上，通过改变旋转速度调整抛光液剪切速率。抛光头旋转电机通过抛光头角度变换平台与音圈电机连接，音圈电机使抛光过程中抛光头与工件间的抛光力保持恒定。抛光头角度变换平台与三轴联动平台连接，实现结构化抛光头和工件保持恒定的间隙。抛光液槽安装在工件旋转平台上,曲面透镜阵列工件安装在抛光液槽内表面，通过抛光液槽的旋转实现工件的连续均匀抛光。本发明能够实现对透镜阵列光学元件的低损伤甚至无损伤抛光，实现纳米甚至亚纳米粗糙度。另外基于非接触抛光的高柔性特点，提出两种透镜阵列光学元件的抛光方法，提高加工的可控性。
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公开(公告)号：CN114378718B
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN202210100352.9
申请日：2022-01-27
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
IPC分类号： B24B57/02
摘要： 一种非牛顿流体分散装置及方法，属于精密/超精密加工领域。所述分散装置包括连接气管、旋转平台、抛光功能液槽、运动隔离气体接头、气管接头、气压节流阀门。抛光功能液槽与旋转平台相连，待加工工件与抛光功能液槽相连,通过抛光功能液槽的旋转实现非牛顿流体抛光液的均匀分散。所述运动隔离气体接头顶端穿过旋转平台中心通孔，通过管用螺纹与抛光功能液槽连接，其底部通过气管接头与外部气泵连接。使用过程中,抛光液能够不断的由上向下的循环运动，保证抛光液的均匀性。本发明可以解决剪切增稠抛光中非牛顿流体易沉降的难题，该方法简单，装置操作方便；可以通过改变气体流速，实现不同体系的非牛顿流体的分散，且不会对抛光过程造成干扰。
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公开(公告)号：CN113458909B
公开(公告)日：2022-06-07
申请号：CN202110638414.7
申请日：2021-06-08
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
摘要： 一种光学透镜双面抛光方法，属于超精密加工领域。该双面抛光方法通过在透镜上下位置设置磨具，在抛光过程中磨具贴合透镜上下表面往复摆动，产生相对运动去除表面材料，实现透镜上下表面同时抛光。抛光过程中磨具的运动包括上下磨具的自身转动和上下磨具整体往复摆动，其中上下磨具的自身转动由电机带动完成，摆杆通过万向节带动上下磨具完成其相对于待抛光透镜的圆轨迹摆动。且抛光过程中的采用通过磨具中心供液方式或外部滴液方式进行抛光液供给。本发明为了消除去除不均匀的问题，抛光过程中采用磨具摆动加工和工件翻面抛光的方法，能实现高效率的非平面透镜的双面高精度加工，且该方法可以应用于不同类型透镜的双面抛光。
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公开(公告)号：CN116394113A
公开(公告)日：2023-07-07
申请号：CN202310027479.7
申请日：2023-01-09
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明公开了一种光学透镜的剪切增稠抛光装置及方法，所述装置包括旋转电机、供液泵、抛光液槽、旋转平台、微调平台、透镜夹具、结构化抛光工具、变角度转台和三轴联动平台；所述三轴联动平台用于实现结构化抛光工具在X、Y和Z三个方向位置的调整。本发明的结构化抛光工具能够有效带动剪切增稠抛光液流动，并实现光学透镜低损伤甚至无损伤抛光，可实现纳米甚至亚纳米粗糙度。本发明基于剪切增稠抛光特性，先使用全口径弧面抛光头去除表面材料提高效率，后使用子口径球形抛光头提高表面质量，能够通过调整抛光间隙来保证材料去除均匀性，保证了面形精度。
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公开(公告)号：CN112792726A
公开(公告)日：2021-05-14
申请号：CN202110001569.X
申请日：2021-01-04
申请人： 大连理工大学
IPC分类号： B24B37/08 , B24B37/04 , B24B41/00 , B24B49/00 , C21D1/30 , C21D1/773 , C22F1/02 , C22F1/08 , C22F1/12 , C22F1/16
摘要： 一种弱刚性平板件的高精度加工方法，属于超精密加工技术领域。本发明通过将工件退火热处理后释放工件表面及其内部残余应力，同时采用固结磨料垫进行双面研磨，之后进行双面化学机械抛光工艺，从而实现对弱刚性薄壁构件的高精度高表面完整性加工。本发明通过去应力退火，释放工件内部和表面残余应力，通过双面研磨加工工艺，实现高面形精度的加工，通过双面化学机械抛光工艺，实现工件表面完整性的改善。
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公开(公告)号：CN112444224A
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN202011266203.7
申请日：2020-11-13
申请人： 大连理工大学
摘要： 一种透镜口径及厚度智能检测系统及方法，属于自动检测技术领域。检测系统包括支撑模块、万能治具模块、自动测量模块、上下电动推杆、两个测量探头、推力球轴承、蜗轮蜗杆机构，其中，支撑模块用于固定万能治具模块和自动测量模块。检测系统能够实现透镜中厚测量和透镜口径测量。本发明提供的透镜测量检测系统结构紧凑合理，操作简单、自动化程度高，可同时完成透镜口径和厚度测量，对测量人员要求低，可大幅提升工作效率和检测准确度。
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公开(公告)号：CN112846977B
公开(公告)日：2022-05-20
申请号：CN202110001535.0
申请日：2021-01-04
申请人： 大连理工大学
摘要： 一种减小双面研磨工件平面度误差的方法，属于机械研磨抛光加工领域，在双面研磨机的加工过程中，工件在游星轮内仍存在自转运动；且为了保证双面研磨过程中工件表面的运动均匀性，游星轮中心与工件中心存在一定距离。本发明针对带有偏心和自转的行星运动进行计算，首先，通过测量加工过程中转速，计算上下盘的材料去除差异；其次，通过计算上下面的面形变化，得到翻面时间；最后，经过多次翻面，实现双面平面度的收敛。本发明可以在双面研磨的基础上较大地减小工件上下表面的平面度，能够实现在精度较差研磨盘上实现高精度加工。
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