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公开(公告)号:CN1184346C
公开(公告)日:2005-01-12
申请号:CN99101568.1
申请日:1999-01-23
申请人: 大连理工大学
IPC分类号: C23C8/36
摘要: 材料表面改性领域中用计算机控制的等离子体源离子渗氮工艺及设备,工艺包括:工件准备、装炉抽真空、充氮气、注渗和停机出炉工艺步骤;特征:通过计算机[14]自动调控正负脉冲对的频率,占空比和幅值实现温度控制,使之按设定的渗氮温度典线变化;渗氮剂量由计算机监测和计算。设备包括:主真空室、供电、供气和抽气系统,还包括与主真空室相连的微波源系统[29]和与计算机相连的自动监控系统;主真空室[21]外侧由小块永久磁铁[20]构成会切磁场,两侧设有带石英窗[17]的电子回旋共振反应室[18],它的外侧设有电磁线圈[19],微波束通过石英窗进入反应室,与磁场共同作用使氮气产生高密度等离子体。优点:简化设备,降低能耗40%,过程完全自动化,工艺稳定安全,不打火不起弧,重复性好。
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公开(公告)号:CN1262341A
公开(公告)日:2000-08-09
申请号:CN99101568.1
申请日:1999-01-23
申请人: 大连理工大学
IPC分类号: C23C8/36
摘要: 材料表面改性领域中,用计算机控制的等离子体源离子渗氮工艺及设备,包括升温、保温、降温及离子注渗工艺过程和供电系统、供气系统、抽真空系统与主真空室所构成的设备,特征是采用自加热式加热工件,通过计算机自动控制正负脉冲对的重复频率、各自的占空比与幅值来实现对工件温度的控制,使之按设定的渗氮温度曲线变化,优点:简化设备,降低能耗40%,过程完全自动化,工艺稳定,不打火,不起弧,不引起工件退火,安全可靠,重复性好。
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