-
公开(公告)号:CN114870804B
公开(公告)日:2022-12-09
申请号:CN202210652696.0
申请日:2022-06-10
申请人: 大连科利德光电子材料有限公司
IPC分类号: B01J20/20 , B01J20/10 , B01J20/04 , B01J20/02 , B01J20/30 , B01J20/32 , B01D53/02 , C01B6/10
摘要: 本发明涉及电子特种气体提纯领域,尤其涉及一种杂质气体吸附剂及其制备方法和应用,所述杂质气体吸附剂,包括多孔二氧化硅骨架;所述多孔二氧化硅骨架表面负载有碱土金属的氧化物或氢氧化物以及过渡金属的化合物;还包括包覆在多孔二氧化硅骨架外部的碳层;所述碳层外部还物理负载有铵盐。本发明在多孔二氧化硅骨架上负载有碱土金属的氧化物或氢氧化物以及过渡金属化合物,能够对乙硼烷中的杂质气体通过物理以及化学的方式进行吸附,有效提升了乙硼烷的纯度,同时本发明中的杂质气体吸附剂的使用方法简单,同时经过简单的吸附处理后的乙硼烷中氧气的浓度能够达到ppb级别。
-
公开(公告)号:CN114870804A
公开(公告)日:2022-08-09
申请号:CN202210652696.0
申请日:2022-06-10
申请人: 大连科利德光电子材料有限公司
IPC分类号: B01J20/20 , B01J20/10 , B01J20/04 , B01J20/02 , B01J20/30 , B01J20/32 , B01D53/02 , C01B6/10
摘要: 本发明涉及电子特种气体提纯领域,尤其涉及一种杂质气体吸附剂及其制备方法和应用,所述杂质气体吸附剂,包括多孔二氧化硅骨架;所述多孔二氧化硅骨架表面负载有碱土金属的氧化物或氢氧化物以及过渡金属的化合物;还包括包覆在多孔二氧化硅骨架外部的碳层;所述碳层外部还物理负载有铵盐。本发明在多孔二氧化硅骨架上负载有碱土金属的氧化物或氢氧化物以及过渡金属化合物,能够对乙硼烷中的杂质气体通过物理以及化学的方式进行吸附,有效提升了乙硼烷的纯度,同时本发明中的杂质气体吸附剂的使用方法简单,同时经过简单的吸附处理后的乙硼烷中氧气的浓度能够达到ppb级别。
-