公开(公告)号：CN115151521B

公开(公告)日：2024-09-24

申请号：CN202180016618.5

申请日：2021-02-24

申请人： 大金工业株式会社 ,  国立大学法人大阪大学

发明人： 莲本雄太 ,  高桑达哉 ,  山本治 ,  中谷英树 ,  能美政男 ,  佐藤数行 ,  山之井航平 ,  大岛明博

IPC分类号： C07C17/269 ,  C07C21/18 ,  C07C17/361

摘要： 本发明涉及一种在目标化合物的合成过程中不需要高温和催化剂，并且目标化合物的选择率高的氢氟烯烃(HFO)或氟烯烃(FO)的制造方法。本发明具体提供一种碳原子数为2、3或4的氢氟烯烃或氟烯烃的制造方法，其特征在于：向选自碳原子数为1或2的氢氟烃和碳原子数为2或3的氢氟烯烃A中的至少一种原料化合物照射电离辐射线和/或波长300nm以下的紫外线，其中，当上述原料化合物为上述氢氟烯烃A时，所得到的上述氢氟烯烃不同于上述氢氟烯烃A。

公开(公告)号：CN115151521A

公开(公告)日：2022-10-04

申请号：CN202180016618.5

申请日：2021-02-24

申请人： 大金工业株式会社 ,  国立大学法人大阪大学

发明人： 莲本雄太 ,  高桑达哉 ,  山本治 ,  中谷英树 ,  能美政男 ,  佐藤数行 ,  山之井航平 ,  大岛明博

IPC分类号： C07C17/269 ,  C07C21/18 ,  C07C17/361

摘要： 本发明涉及一种在目标化合物的合成过程中不需要高温和催化剂，并且目标化合物的选择率高的氢氟烯烃(HFO)或氟烯烃(FO)的制造方法。本发明具体提供一种碳原子数为2、3或4的氢氟烯烃或氟烯烃的制造方法，其特征在于：向选自碳原子数为1或2的氢氟烃和碳原子数为2或3的氢氟烯烃A中的至少一种原料化合物照射电离辐射线和/或波长300nm以下的紫外线，其中，当上述原料化合物为上述氢氟烯烃A时，所得到的上述氢氟烯烃不同于上述氢氟烯烃A。