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公开(公告)号:CN108511198B
公开(公告)日:2020-05-22
申请号:CN201810402955.8
申请日:2018-04-28
申请人: 天津大学
发明人: 邹吉军 , 孔德超 , 潘伦 , 张香文 , 王莅
IPC分类号: H01G9/20 , H01G9/042
摘要: 本发明公开了一种Ni掺杂的BiVO4薄膜光电阳极,在电极本体上有一层Ni掺杂的BiVO4纳米颗粒构成的薄膜。本发明还公开了所述Ni掺杂的BiVO4薄膜光电阳极的制备方法及用于光电化学分解水的用途。
公开(公告)号:CN108511198A
公开(公告)日:2018-09-07