-
公开(公告)号：CN112068227B
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN202010947461.5
申请日：2020-09-10
申请人： 天津津航技术物理研究所
摘要： 本发明属于光学薄膜技术领域，公开了一种大角度入射红外硬质保护薄膜窗口，通过在Si基底一面设计大角度入射红外减反射硬质保护薄膜，其中选择高硬度的Si3N4薄膜作为最外层保护薄膜，在另一面设计大角度入射红外减反射薄膜，能实现高透过率、高硬度(>20GPa)、大角度工作范围(0°‑70°)的红外硬质保护薄膜窗口的设计。结果表明，本发明将大大提高红外硬质保护薄膜窗口在不同入射角度范围内的性能，对于大角度入射高性能红外硬质保护薄膜窗口的离子束溅射制备具有重要的作用。
-
公开(公告)号：CN112285063A
公开(公告)日：2021-01-29
申请号：CN202011012332.3
申请日：2020-09-24
申请人： 天津津航技术物理研究所
摘要： 本申请提供有一种超薄金属薄膜红外光学常数的表征方法，其通过制备特殊的超薄金属薄膜光学常数表征样品，增加样品光谱特征，利用薄膜光学常数反演计算方法得到超薄金属薄膜的精确红外光学常数。该方法适用于厚度小于100nm的金、银、铝、铬等常用金属薄膜的精确红外光学常数的表征，为含有超薄金属薄膜材料的红外薄膜的设计与制备提供了重要的技术支撑，该表征方法可获取超薄金属薄膜在红外波段单点或宽带的光学常数，有效解决红外波段金属‑介质薄膜设计中金属膜层参数不准确的问题。
-
公开(公告)号：CN106644087B
公开(公告)日：2020-05-05
申请号：CN201611128964.X
申请日：2016-12-09
申请人： 天津津航技术物理研究所
IPC分类号： G01J5/00
摘要： 本发明属于光谱热辐射率表征领域，具体涉及一种多层光学薄膜光谱热辐射率的计算方法。本发明提供的计算方法具有简单可操作性，对于确定的多层薄膜‑基底‑多层薄膜系统结构，仅需确定基底与薄膜材料的热光系数，就能够完整表达光学多层膜的光谱定向辐射率、定向辐射率、光谱辐射率和积分空间辐射率。采用本方法能够避免直接测量的繁琐和测量仪器的复杂结构设计，具有一定的科学与应用价值。
-
公开(公告)号：CN107479191B
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201710694623.7
申请日：2017-08-15
申请人： 天津津航技术物理研究所
摘要： 本发明属于属于光学薄膜技术领域，具体涉及一种可见光波段深截止的激光矩形滤光片及设计方法。本发明提出的激光矩形滤光片设计方法，将多腔滤光薄膜分成对称两个部分同时沉积在胶合基底的内表面，避免了多腔滤光片的制备误差累计问题。通过调整两个基底外表面的长波通和短波通截止滤光薄膜的周期数，可以控制截止带的截止深度。该设计方法提供的滤光元件，适用于熔融石英基底和玻璃基底基底，可实现在532nm激光波长达到95％以上的透过率，带宽小于1.5nm，截止深度小于1×10‑4。
-
公开(公告)号：CN106443841B
公开(公告)日：2018-10-26
申请号：CN201611000421.X
申请日：2016-11-14
申请人： 天津津航技术物理研究所
IPC分类号： G02B1/115
摘要： 本发明公开了一种超低剩余反射率ZnS基底长波减反射薄膜，其主要特征是：通过使用锗、硫化锌和氟化钇三种薄膜材料组合，将膜层总物理厚度控制在2um左右；高应力的氟化钇膜层共两层，最大层厚度小于0.4um。通过镀制该减反射薄膜可将硫化锌基底在7.5‑9.7um波段范围内最大剩余反射率降至0.5％以下，平均反射率降至0.1％以下。该膜层适用于各种硫化锌基底的表面减反射处理，可用各种热蒸发的沉积方式制备。
-
公开(公告)号：CN107515438A
公开(公告)日：2017-12-26
申请号：CN201710795923.4
申请日：2017-09-06
申请人： 天津津航技术物理研究所
摘要： 本发明公开了一种红外宽谱段截止窄带激光分光元件，其包括：基底，基底的第一表面(a)上镀长波通截止滤光薄膜，基底的第二表面(b)上镀窄带通滤光薄膜。本发明分别将长波通和窄带通滤光片设计在元件的两个表面，通过调整两个膜系结构的厚度，能够有效控制表面的面形变化，可实现的技术指标如下为：3μm-5μm波长范围内的反射率达到99.99％以上，8μm-10.5μm波长范围内的平均反射率达到96％以上，10.7μm-12μm波长范围内的平均反射率达到93％以上；10.6μm波长的带宽为0.3μm，透过率达到94％以上。
-
公开(公告)号：CN107462530A
公开(公告)日：2017-12-12
申请号：CN201710576412.3
申请日：2017-07-14
申请人： 天津津航技术物理研究所
摘要： 本发明涉及一种含氢类金刚石薄膜的全光谱段光学常数表征方法，属于光学薄膜技术领域。本发明从短波吸收区开始计算然后加入振动吸收区特性，有效避免了使用单一介电常数模型无法精确外推光谱区常数的问题。该方法可以直接应用于含氢DLC或者含杂质吸收的DLC薄膜光学常数的测试与表征。
-
公开(公告)号：CN112285063B
公开(公告)日：2023-06-09
申请号：CN202011012332.3
申请日：2020-09-24
申请人： 天津津航技术物理研究所
摘要： 本申请提供有一种超薄金属薄膜红外光学常数的表征方法，其通过制备特殊的超薄金属薄膜光学常数表征样品，增加样品光谱特征，利用薄膜光学常数反演计算方法得到超薄金属薄膜的精确红外光学常数。该方法适用于厚度小于100nm的金、银、铝、铬等常用金属薄膜的精确红外光学常数的表征，为含有超薄金属薄膜材料的红外薄膜的设计与制备提供了重要的技术支撑，该表征方法可获取超薄金属薄膜在红外波段单点或宽带的光学常数，有效解决红外波段金属‑介质薄膜设计中金属膜层参数不准确的问题。
-
公开(公告)号：CN114136896A
公开(公告)日：2022-03-04
申请号：CN202111414307.2
申请日：2021-11-25
申请人： 天津津航技术物理研究所
摘要： 本申请提供一种光学薄膜光学常数工艺相关性的实验方法，包括以下步骤：设定单层薄膜；设定所述单层薄膜的目标工艺参数A；设置所述目标工艺参数A的值A1,A2......An；以设定规则对所述目标工艺参数A进行排序；按排序后的所述目标工艺参数A的顺序依次在光学基底上制备具有对应所述目标工艺参数A的值的所述单层薄膜，每层所述单层薄膜的其它工艺参数不变，获得分层光学薄膜；获取所述分层光学薄膜的目标光谱；构建所述分层光学薄膜的物理模型，每层所述单层薄膜具有相同的光学常数模型；以所述目标光谱为目标函数，对所述物理模型的每层所述单层薄膜的光学常数进行拟合；计算获得所述单层薄膜的光学常数；获得所述光学常数和所述目标工艺参数A的相关性。
-
公开(公告)号：CN112355484A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN202011036851.3
申请日：2020-09-28
申请人： 天津津航技术物理研究所
IPC分类号： B23K26/362 , B23K26/064
摘要： 本发明提供了一种基于高斯光束聚焦直写的表面周期性锥形微结构的加工方法，用以解决现有技术中大面积表面周期锥形微结构加工效率低的问题。所述表面周期锥形微结构加工方法，首先将高斯激光光束导入聚焦物镜形成光斑，再根据基底材料损伤阈值调节相关参数，使聚焦光斑能量高于基底材料损伤阈值的区域为一椭球形，光斑对焦至基底加工面后，利用位移平台平移待加工基底，使聚焦光斑在基底表面的烧蚀出周期性锥形微结构。本发明无需高精度聚焦，利用高斯光束聚焦后自身的能量分布梯度，通过扫描的运动形式，在基底表面直接形成锥状周期微结构，一次性完成精细三维结构的加工，速度快、效率高，工艺流程简单，且可实现高精度连续非平面的加工。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
55 条记录 (耗时 0.052 秒)