微波等离子体增强弧辉渗镀涂层的装置及工艺

    公开(公告)号:CN100395371C

    公开(公告)日:2008-06-18

    申请号:CN200510048154.9

    申请日:2005-12-02

    发明人: 贺琦 潘俊德 徐重

    IPC分类号: C23C14/00

    摘要: 一种微波等离子体增强冷阴极电弧渗镀涂层的装置及工艺属于等离子表面改性的范畴,其特征是在加弧辉光离子渗镀装置中,引入一个微波ECR源,在真空电弧放电作用下从金属冷阴极电弧源发射出的高能量高离化率的金属粒子(离子、原子、分子等),在微波ECR等离子体放电产生的高密度等离子体的作用下,得到进一步的离解活化,能量得到提高,与反应气体的化合过程得到加强,提高涂层沉积速度的同时,增强涂层与基底的结合能力,在工件表面快速获得碳、氮化合物硬质涂层。

    微波等离子体增强弧辉渗镀涂层的装置及工艺

    公开(公告)号:CN1775997A

    公开(公告)日:2006-05-24

    申请号:CN200510048154.9

    申请日:2005-12-02

    发明人: 贺琦 潘俊德 徐重

    IPC分类号: C23C14/00

    摘要: 一种微波等离子体增强冷阴极电弧渗镀涂层的装置及工艺属于等离子表面改性的范畴,其特征是在加弧辉光离子渗镀装置中,引入一个微波ECR源,在真空电弧放电作用下从金属冷阴极电弧源发射出的高能量高离化率的金属粒子(离子、原子、分子等),在微波ECR等离子体放电产生的高密度等离子体的作用下,得到进一步的离解活化,能量得到提高,与反应气体的化合过程得到加强,提高涂层沉积速度的同时,增强涂层与基底的结合能力,在工件表面快速获得碳、氮化合物硬质涂层。