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公开(公告)号：CN100362127C
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：CN200510012419.X
申请日：2005-03-25
申请人： 太原理工大学
摘要： 一种制备氮化钛复合陶瓷的工艺属于金属材料表面冶金改性技术的范畴。其特征在于是，在真空容器内，将金属源极以金属钛丝的形式插入到平板或圆桶中且钛丝与钛丝间隔8-15mm，长度为10-50mm，置于距离被渗金属工件10-28mm处，首先将氩气通入到真空容器中，在低电压作用下将欲渗金属钛丝以钛的离子和原子的形式高密度溅射出来，吸附在被轰击加热到一定温度的被渗金属工件表面上，形成一定厚度的钛的渗镀扩散层。然后通入一定混合比的氩气和氮气(或氨气)在钛被溅射和扩散的同时使氮与钛元素在被渗金属工件表面产生化学反应，形成TiN的晶核并长大，其TiN合金层和扩散层厚度高达10μm以上，钛和氮的成分也由高到低向内呈梯度分布，使表面TiN合金层和基体有良好的结合强度。
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公开(公告)号：CN1174113C
公开(公告)日：2004-11-03
申请号：CN02110182.5
申请日：2002-03-18
申请人： 太原理工大学
摘要： 射频-直流多层辉光离子渗镀设备及工艺属于表面冶金的范畴，其设备特征是在炉底盘与工件极之间放置一绝缘物，对射频与直流，炉底盘和工件极将具有不同的电极功能。工件利用辉光放电空心阴极效应进行加热，在工艺上提供了一种在导体、非导体基材表面形成表面镀层、扩散层和扩散层与镀层复合层的方法。本发明将直流辉光引入工件，弥补了射频溅射设备只能形成镀层不能形成渗入扩散层的不足。提供了具有更强结合力的渗、镀、扩散及它们之间相互结合的复合层材料。
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公开(公告)号：CN1388269A
公开(公告)日：2003-01-01
申请号：CN02110301.1
申请日：2002-04-18
申请人： 太原理工大学
IPC分类号： C23C14/42
摘要： 三栅极式离子渗镀设备及工艺属于表面冶金范畴。具体来讲是一种在金属、非金属固体基材表面形成镀层、扩散层和扩散层与镀层复合层的设备和工艺。其特征在于:在可以抽成真空容器中,同轴设置两个欲溅射元素靶栅极和一个欲沉积或被渗元素的工件栅极,既形成具有PLUME效应、“烧孔效应”的三栅极栅极结构。本设备配置三套高压直流电源,靶栅极和工件栅极分别接在各自直流电源的阴极,三个电源的阳极接在炉罩和炉底板上。系统工作时,利用三栅极PLUME效应、“烧孔效应”的溅射轰击加热作用,实现欲渗元素(金属或非金属的)在工件基材表面(金属或非金属的)的沉积或渗入。
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公开(公告)号：CN1200134C
公开(公告)日：2005-05-04
申请号：CN02110301.1
申请日：2002-04-18
申请人： 太原理工大学
IPC分类号： C23C14/42
摘要： 三栅极式离子渗镀设备及工艺属于表面冶金范畴。具体来讲是一种在金属、非金属固体基材表面形成镀层、扩散层和扩散层与镀层复合层的设备和工艺。其特征在于：在可以抽成真空容器中，同轴设置两个欲溅射元素靶栅极和一个欲沉积或被渗元素的工件栅极，既形成具有PLUME效应、“烧孔效应”的三栅极栅极结构。本设备配置三套高压直流电源，靶栅极和工件栅极分别接在各自直流电源的阴极，三个电源的阳极接在炉罩和炉底板上。系统工作时，利用三栅极PLUME效应、“烧孔效应”的溅射轰击加热作用，实现欲渗元素(金属或非金属的)在工件基材表面(金属或非金属的)的沉积或渗入。
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公开(公告)号：CN1174112C
公开(公告)日：2004-11-03
申请号：CN02110184.1
申请日：2002-03-18
申请人： 太原理工大学
摘要： 本发明双层辉光离子渗碳装置及工艺，其属于金属材料表面化学热处理工艺技术的范畴。具体的来讲是一种在导电物质的表面利用双层辉光离子渗金属中的空心阴极效应及不等电位空心阴极效应，进行离子渗碳与碳-氮共渗的技术和装置。本发明提供了以石墨为供给碳源的辉光溅射渗入装置和方法。空心阴极效应及不等电位空心阴极效应，加强了碳的渗入及可控性。充入含氮气氛可以实现碳氮共渗。本发明是一种碳原子形成方便、快捷、无污染、渗入速度快，渗层均匀，成份可控，设备简单，成本低、无氢渗碳的辉光放电技术及装置。
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公开(公告)号：CN1386896A
公开(公告)日：2002-12-25
申请号：CN02110182.5
申请日：2002-03-18
申请人： 太原理工大学
摘要： 射频－直流多层辉光离子渗镀设备及工艺属于表面冶金的范畴,其设备特征是在炉底盘与工件极之间放置一绝缘物,对射频与直流,炉底盘和工件极将具有不同的电极功能。工件利用辉光放电空心阴极效应进行加热,在工艺上提供了一种在导体、非导体基材表面形成表面镀层、扩散层和扩散层与镀层复合层的方法。本发明将直流辉光引入工件,弥补了射频溅射设备只能形成镀层不能形成渗入扩散层的不足。提供了具有更强结合力的渗、镀、扩散及它们之间相互结合的复合层材料。
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公开(公告)号：CN1385268A
公开(公告)日：2002-12-18
申请号：CN02110193.0
申请日：2002-03-20
申请人： 太原理工大学
摘要： 制备碳及金属纳米粒子材料的装置及工艺属于纳米技术与微粒子合成技术领域。其特征在于它是利用电子浴辅助阴极电弧源,把石墨或金属及其合金制成阴极电弧源的靶材,引燃电弧后发射出高能量、高密度、高离化率的碳或金属的离子流,经电子发射装置产生的大量热电子的碰撞后进一步离化,在液氮急速冷却的收集器内合成碳及金属的纳米粒子,该发明具有合成速度快、设备简单、成本低等优点。
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公开(公告)号：CN1227276A
公开(公告)日：1999-09-01
申请号：CN99101671.8
申请日：1999-02-11
申请人： 太原理工大学
IPC分类号： C23C14/38
摘要： 一种脉冲辉光放电等离子表面冶金技术，属于表面冶金的范畴，其特征在于是在密闭的真空室内放置欲渗金属元素作为源极，被渗工件作为阴极，并放置公共阳极，在源极和阳极之间以及阴极和阳极之间配置两套脉冲直流电源，在一定条件下很好地解决了小孔、窄槽、深孔、渗金属的难题，促使渗金属表面合金含量增高，渗层厚度增加，晶粒细化，源极溅射量增加，而且其参数之间相互影响较小，可以彼此独立地进行调节，灭弧效果好，升温速度快，节省时间及能源。
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公开(公告)号：CN100395371C
公开(公告)日：2008-06-18
申请号：CN200510048154.9
申请日：2005-12-02
申请人： 太原理工大学
IPC分类号： C23C14/00
摘要： 一种微波等离子体增强冷阴极电弧渗镀涂层的装置及工艺属于等离子表面改性的范畴，其特征是在加弧辉光离子渗镀装置中，引入一个微波ECR源，在真空电弧放电作用下从金属冷阴极电弧源发射出的高能量高离化率的金属粒子(离子、原子、分子等)，在微波ECR等离子体放电产生的高密度等离子体的作用下，得到进一步的离解活化，能量得到提高，与反应气体的化合过程得到加强，提高涂层沉积速度的同时，增强涂层与基底的结合能力，在工件表面快速获得碳、氮化合物硬质涂层。
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