一种宽pH范围的4H-SiC光电化学型紫外光电探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN118089936A

    公开(公告)日:2024-05-28

    申请号:CN202410097607.X

    申请日:2024-01-24

    Abstract: 本发明涉及一种宽pH范围的4H‑SiC光电化学型紫外光电探测器及其制备方法,属于光电探测技术领域。本发明公开了一种宽pH范围的4H‑SiC光电化学型紫外光电探测器,其包括自支撑电极,所述自支撑电极包括单晶集成自支撑SiC纳米孔阵列、阵列底部未蚀刻的单晶层;在施加偏置电压、紫外光作用时,所述4H‑SiC光电化学型紫外光电探测器的光电流随电解液pH的增加而增大;在无偏置电压,施加紫外光时,所述4H‑SiC光电化学型紫外光电探测器的光电流随电解液pH的增加而增大。本发明还公开了一种宽pH范围的4H‑SiC光电化学型紫外光电探测器的制备方法。本发明的宽pH范围的4H‑SiC光电化学型紫外光电探测器在酸性、中性和碱性条件下都具有稳定的光响应,并且对溶液浓度有高灵敏度。

    一种核壳结构的SiC@C纳米线准阵列及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN115020114A

    公开(公告)日:2022-09-06

    申请号:CN202210605950.1

    申请日:2022-05-31

    Abstract: 本发明涉及一种核壳结构的SiC@C纳米线准阵列及其制备方法与应用,属于纳米材料技术领域。本发明公开了一种核壳结构的SiC@C纳米线准阵列,所述SiC@C纳米线准阵列中SiC的相组成为3C‑SiC,壳层的C为PEDOT层经冷冻干燥、碳化后的掺杂硫元素的碳材料。本发明还公开了一种核壳结构的SiC@C纳米线准阵列的制备方法,所述的制备方法包括:将预处理后的碳布覆盖在盛有聚硅氮烷、三聚氰胺粉末的坩埚口,在高温气氛炉中加热,冷却后得沉积SiC准阵列的碳布;将沉积SiC纳米线的碳布置于反应真空室,将汽态的EDOT诱导进入反应真空室,汽态的FeCl3引入反应真空室后沉积得SiC@PEDOT纳米线准阵列,清洗后经冷冻干燥、碳化得硫掺杂的SiC@C纳米线复合材料。

    一种SiC纳米线阵列薄膜的制备方法及其在超级电容器电极中的应用

    公开(公告)号:CN109904004B

    公开(公告)日:2020-10-09

    申请号:CN201910091359.7

    申请日:2019-01-30

    Abstract: 本发明涉及一种SiC纳米线阵列薄膜的制备方法及其在超级电容器电极中的应用,属于微能源制造技术领域,制备方法包括:将SiC晶圆先切割成SiC晶片,再经清洗、浸泡、干燥处理;将干燥后的SiC晶片作为阳极,SiC晶片的C面接触电极夹,浸入刻蚀液中进行刻蚀处理后取出;将SiC晶片C面的背面接触电极夹,再次浸入刻蚀液中进行剥离处理得SiC纳米线阵列薄膜。本发明SiC纳米线阵列薄膜制备方法,工艺方法简单,具有很好的重复性,且剥离方法简单,剥离的SiC纳米线阵列薄膜完整,成功率高。

    SiC纳米孔阵列在超级电容器中的应用

    公开(公告)号:CN109103025A

    公开(公告)日:2018-12-28

    申请号:CN201810720469.0

    申请日:2018-07-03

    CPC classification number: H01G11/30 H01G11/22 H01G11/24

    Abstract: 本发明涉及SiC纳米孔阵列在超级电容器中的应用,属于纳米材料技术领域。所述的超级电容器的电极由SiC纳米孔阵列一体化制成。所述的SiC纳米孔阵列的相成分为4H-SiC,所述的SiC纳米孔阵列的纳米孔为竖直孔道结构,孔直径为5-40nm,孔长为8-20μm。本发明中SiC纳米孔阵列电极材料具有大比表面积、较好导电性以及化学稳定性和热稳定性,在较宽的温度条件下都具有较高的循环稳定性,因此,将SiC纳米孔阵列一体化制成电极用于超级电容器中可在保证超级电容器高比电容的同时提高其在宽温条件下的循环温度性。

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