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公开(公告)号：CN107378722B
公开(公告)日：2023-05-19
申请号：CN201710625568.6
申请日：2017-07-27
申请人： 宇环数控机床股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种抛光机上盘多工位同步传动结构，包括上盘，均匀分布设在上盘上的若干机械手，还包括设在上盘中央的驱动机构，所述机械手分别通过传动机构与所述驱动机构连接，并由该驱动机构驱动。本发明可以实现由单一电机带动均布于大盘上的多工位机械手同步摆动，且能保证设备的加工精度，提高机床抛光质量和效率，适用于批量大且形面质量要求高的零部件抛光、加工等。
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公开(公告)号：CN103817601A
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：CN201410082081.4
申请日：2014-03-07
申请人： 宇环数控机床股份有限公司
IPC分类号： B24B53/017
CPC分类号： B24B53/017
摘要： 本发明公开了一种上研磨盘砂轮的修整方法及实现该方法的机构，其方法是在上研磨盘砂轮的万向机构上设置锁紧机构，当需要修整砂轮时，先通过锁紧机构将万向机构锁死从而使上研磨盘砂轮失去万向功能；再使修刀臂进入旋转的上、下研磨盘砂轮之间，且过上、下研磨盘砂轮中心做直线运动，达到上、下研磨盘砂轮同时修整的目的。本发明的优点是，当需要修整砂轮时，可先通过锁紧机构将万向机构锁死从而使上研磨盘砂轮失去万向功能，再同时修整上、下研磨盘砂轮，达到上、下研磨盘砂轮同时修整的目的。修整完后解锁锁紧机构使上研磨盘砂轮恢复正常的研磨功能。
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公开(公告)号：CN105458839B
公开(公告)日：2017-11-17
申请号：CN201510793529.8
申请日：2015-11-18
申请人： 宇环数控机床股份有限公司
IPC分类号： B24B1/00
摘要： 本发明公开了一种磁流变抛光方法及装置，所述方法是将工件置于设有磁场的磁流变液中，使工件做至少两个自由度的运动对工件的表面进行抛光加工。本发明的特点是在具有磁场的磁流变液中使工件做多个自由度的运动，在梯度磁场的作用下，由于液体形态的磁流变液会变成具有强粘弹性作用的液固态，其沿着磁力线方向形成的磁链将夹持着磨粒，相当于一个个磁柔性小磨头，利用工件与磁流变液产生相对运动，通过控制工件的多自由度运动，能够在一次装夹下，同时对一个或多个工件的外表面进行抛光加工，其外表面可以是平面、弧面或复杂曲面。
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公开(公告)号：CN103817601B
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201410082081.4
申请日：2014-03-07
申请人： 宇环数控机床股份有限公司
IPC分类号： B24B53/017
摘要： 本发明公开了一种上研磨盘砂轮的修整方法及实现该方法的机构，其方法是在上研磨盘砂轮的万向机构上设置锁紧机构，当需要修整砂轮时，先通过锁紧机构将万向机构锁死从而使上研磨盘砂轮失去万向功能；再使修刀臂进入旋转的上、下研磨盘砂轮之间，且过上、下研磨盘砂轮中心做直线运动，达到上、下研磨盘砂轮同时修整的目的。本发明的优点是，当需要修整砂轮时，可先通过锁紧机构将万向机构锁死从而使上研磨盘砂轮失去万向功能，再同时修整上、下研磨盘砂轮，达到上、下研磨盘砂轮同时修整的目的。修整完后解锁锁紧机构使上研磨盘砂轮恢复正常的研磨功能。
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公开(公告)号：CN104084885B
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201410335256.8
申请日：2014-07-15
申请人： 宇环数控机床股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种研磨抛光盘的循环冷却结构，包括中心旋转轴及间隙套设在中心旋转轴上的空套旋转轴，所述空套旋转轴与中心旋转轴的间隙中设有密封装置，所述密封装置设有互不连通的进水腔和出水腔，所述中心旋转轴上设有与旋转接头连接的第一进水道和第一出水道，所述空套旋转轴上设有与研磨抛光盘连通的第二进水道和第二出水道，所述第一进水道和第一出水道分别通过进水腔和出水腔与第二进水道和第二出水道连通。本发明可实现对研磨抛光盘盘面的主动循环冷却，将抛光时产生大量的热量及时带走，实现温度的精确控制，可提高研磨、抛光精度和效率，适应不同材料加工的要求。
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公开(公告)号：CN107378722A
公开(公告)日：2017-11-24
申请号：CN201710625568.6
申请日：2017-07-27
申请人： 宇环数控机床股份有限公司
CPC分类号： B24B29/00 , B24B41/06 , B24B47/12 , B25J11/0065
摘要： 本发明公开了一种抛光机上盘多工位同步传动结构，包括上盘，均匀分布设在上盘上的若干机械手，还包括设在上盘中央的驱动机构，所述机械手分别通过传动机构与所述驱动机构连接，并由该驱动机构驱动。本发明可以实现由单一电机带动均布于大盘上的多工位机械手同步摆动，且能保证设备的加工精度，提高机床抛光质量和效率，适用于批量大且形面质量要求高的零部件抛光、加工等。
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公开(公告)号：CN105458839A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201510793529.8
申请日：2015-11-18
申请人： 宇环数控机床股份有限公司
IPC分类号： B24B1/00
CPC分类号： B24B1/005
摘要： 本发明公开了一种磁流变抛光方法及装置，所述方法是将工件置于设有磁场的磁流变液中，使工件做至少两个自由度的运动对工件的表面进行抛光加工。本发明的特点是在具有磁场的磁流变液中使工件做多个自由度的运动，在梯度磁场的作用下，由于液体形态的磁流变液会变成具有强粘弹性作用的液固态，其沿着磁力线方向形成的磁链将夹持着磨粒，相当于一个个磁柔性小磨头，利用工件与磁流变液产生相对运动，通过控制工件的多自由度运动，能够在一次装夹下，同时对一个或多个工件的外表面进行抛光加工，其外表面可以是平面、弧面或复杂曲面。
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公开(公告)号：CN104084885A
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：CN201410335256.8
申请日：2014-07-15
申请人： 宇环数控机床股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种研磨抛光盘的循环冷却结构，包括中心旋转轴及间隙套设在中心旋转轴上的空套旋转轴，所述空套旋转轴与中心旋转轴的间隙中设有密封装置，所述密封装置设有互不连通的进水腔和出水腔，所述中心旋转轴上设有与旋转接头连接的第一进水道和第一出水道，所述空套旋转轴上设有与研磨抛光盘连通的第二进水道和第二出水道，所述第一进水道和第一出水道分别通过进水腔和出水腔与第二进水道和第二出水道连通。本发明可实现对研磨抛光盘盘面的主动循环冷却，将抛光时产生大量的热量及时带走，实现温度的精确控制，可提高研磨、抛光精度和效率，适应不同材料加工的要求。
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公开(公告)号：CN203973400U
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201420389161.X
申请日：2014-07-15
申请人： 宇环数控机床股份有限公司
摘要： 本实用新型公开了一种研磨抛光盘的循环冷却结构，包括中心旋转轴及间隙套设在中心旋转轴上的空套旋转轴，所述空套旋转轴与中心旋转轴的间隙中设有密封装置，所述密封装置设有互不连通的进水腔和出水腔，所述中心旋转轴上设有与旋转接头连接的第一进水道和第一出水道，所述空套旋转轴上设有与研磨抛光盘连通的第二进水道和第二出水道，所述第一进水道和第一出水道分别通过进水腔和出水腔与第二进水道和第二出水道连通。本实用新型可实现对研磨抛光盘盘面的主动循环冷却，将抛光时产生大量的热量及时带走，实现温度的精确控制，可提高研磨、抛光精度和效率，适应不同材料加工的要求。
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公开(公告)号：CN203696760U
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201420102181.4
申请日：2014-03-07
申请人： 宇环数控机床股份有限公司
IPC分类号： B24B53/017
摘要： 本实用新型公开了一种上研磨盘砂轮的修整机构，包括上研磨盘砂轮主轴、通过万向机构与上研磨盘砂轮主轴连接的安装上研磨盘砂轮的法兰、设置在所述上研磨盘砂轮主轴与法兰之间且与万向机构配合的锁紧机构。本实用新型的优点是，当需要修整砂轮时，可先通过锁紧机构将万向机构锁死从而使上研磨盘砂轮失去万向功能，再同时修整上、下研磨盘砂轮，达到上、下研磨盘砂轮同时修整的目的。修整完后解锁锁紧机构使上研磨盘砂轮恢复正常的研磨功能。
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