公开(公告)号：CN120060783A

公开(公告)日：2025-05-30

申请号：CN202510321059.9

申请日：2025-03-18

Applicant: 安徽工业大学

Inventor： 张林 ,  郑凯璇 ,  郑军 ,  张世宏 ,  丁继成

IPC: C23C14/16 ,  C23C14/35 ,  C23C14/06 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C23C14/02

Abstract: 本发明涉及表面防护技术领域，具体涉及一种硅氮共掺杂改性轻质高熵合金薄膜、制备方法及应用，该薄膜由金属基体到表面依次包括Cr粘结层、CrN过渡层、AlCrTiNbZrSiN工作层，所述AlCrTiNbZrSiN工作层元素成分按照原子百分比计为Al：7～12％；Cr：7～12％；Ti：7～12％；Zr：7～12％；Nb：7～12％；Si：5～10％；N：25～55％，薄膜呈现典型的面向立方晶态结构。本发明利用磁控溅射多组元强氮化物元素轻质合金靶材，同时引入硅和氮改性元素，形成新型纳米复合结构难熔高熵合金薄膜，具有薄膜致密、结合强度高、耐腐蚀和高温防护性能优良等特点。