一种光学镜片加工用缓冲阻尼布的制备方法

    公开(公告)号:CN117020978A

    公开(公告)日:2023-11-10

    申请号:CN202310999594.0

    申请日:2023-08-09

    摘要: 本发明公开了一种光学镜片加工用缓冲阻尼布的制备方法,由阻尼布基材层、热熔胶层和固定磨料层从上往下设置而成,阻尼布基材层由内胶层、织物增强层和外胶层组成,织物增强层由聚酯纤维编织形成,内胶层和外胶层是涂覆在织物增强层上的改性聚氨酯;本发明通过先制备得到具有耐磨性能、导热性能的改性聚氨酯,再由此制备得到缓冲阻尼布,使得缓冲阻尼布在应用到抛光工作过程中,通过耐磨性能可以有效提高其使用寿命,以及导热性能,可以将产生的热量进行有效导出散热。

    一种聚氨酯复合抛光垫及其制备方法

    公开(公告)号:CN116460734A

    公开(公告)日:2023-07-21

    申请号:CN202310516918.0

    申请日:2023-05-09

    摘要: 本发明公开了一种聚氨酯复合抛光垫及其制备方法,属于抛光垫制备技术领域,首先将10‑20重量份聚氨酯树脂、70‑95重量份溶剂、3‑5重量份打磨剂和5‑10重量份增强组分加入混合机中,搅拌混合0.5‑1h得到浸渍液,室温下,将基材浸渍于浸渍液中,之后置于水中进行预凝聚10‑30min,预凝聚后进行干燥即可,针对现有复合抛光垫导热、耐磨性差的问题,本发明提供一种聚氨酯复合抛光垫,以无纺布或编织布为基材,通过在聚氨酯浸渍液中引入增强组分,在不降低抛光垫透水性的前提下,提高抛光垫的导热性能和耐磨性能,进而提高抛光垫的使命寿命。

    一种硅晶片抛光用多孔吸水CMP抛光垫及其生产工艺

    公开(公告)号:CN118682657A

    公开(公告)日:2024-09-24

    申请号:CN202411019598.9

    申请日:2024-07-29

    摘要: 本发明公开了一种硅晶片抛光用多孔吸水CMP抛光垫及其生产工艺,属于硅晶片抛光技术领域,包括基底层和抛光层,抛光层通过热熔胶粘接在基底层上。本发明解决了现有的CMP抛光垫在使用时,不能对抛光液进行有效地吸收保留及储存释放,使抛光效率低,且抛光磨损大,导致抛光效果差的问题。本发明的储液层定位在上抛光体及下抛光体内,在上抛光体上设置有流道,使导液槽通过流道和上储液槽连通,抛光液洒在抛光垫上时,抛光液经导液槽导向而流至流道内,经流道进入上储液槽内,最终浸润在储液层上,通过储液层对抛光液进行吸收保留,在抛光过程中,储液层储存的抛光液释放,可提升抛光效率,且可避免抛光垫磨损,使抛光效果好。

    一种用于晶体表面抛光的压纹白垫及其生产工艺

    公开(公告)号:CN118305724A

    公开(公告)日:2024-07-09

    申请号:CN202410598318.8

    申请日:2024-05-15

    摘要: 本发明公开了一种用于晶体表面抛光的压纹白垫及其生产工艺,属于压纹白垫技术领域,包括支撑层、弹性层和抛光层,所述抛光层粘接在弹性层的上表面,所述弹性层粘接在支撑层的上表面。本发明解决了现有的白垫在使用时,在抛光过程中易产生高温,其白垫散热性能差,使用寿命短的问题,本发明通过散热通孔和散热通道可将压纹白垫在抛光过程中产生的热量向外界散发出去,通过在散热通道内设置水冷层,使多组水冷层之间通过连通管相连通,通过进水接口可向水冷层内加入冷却水,通过水冷层内的冷却水可对压纹白垫进行水冷降温,进而可对压纹白垫进行高效散热,提升压纹白垫的散热性能,避免压纹白垫损坏,可提升压纹白垫的使用寿命。

    用于TFT盲孔抛光的高吸附性的吸附垫及其制备工艺

    公开(公告)号:CN118219170A

    公开(公告)日:2024-06-21

    申请号:CN202410205241.3

    申请日:2024-02-26

    IPC分类号: B24B37/30

    摘要: 本发明公开了用于TFT盲孔抛光的高吸附性的吸附垫及其制备工艺,属于吸附垫技术领域。用于TFT盲孔抛光的高吸附性的吸附垫,包括从下至上依次连接的基底层、连接层和吸附层,所述吸附层包括致密层、第一发泡层、第一结网层、第二发泡层、第二结网层和第三发泡层,第一结网层和第二结网层均为氮化石墨材料制成网状结构。本发明解决了现有吸附垫的局部形变大的问题,本发明提出的TFT盲孔抛光的高吸附性的吸附垫及其制备工艺,通过提高第一结网层和第二结网层的整体硬度,因而在对TFT盲孔抛光时,施压到吸附垫的局部位置上,也不会造成吸附垫的局部形变大,保护吸附的TFT屏幕不脱落。

    一种掩膜板加工用吸附垫的制备方法

    公开(公告)号:CN117025115A

    公开(公告)日:2023-11-10

    申请号:CN202310999596.X

    申请日:2023-08-09

    摘要: 本发明公开了一种掩膜板加工用吸附垫的制备方法,由离型纸、双面胶、PET膜、双面胶、改性聚氨酯多孔材料和改性聚氨酯保护膜从上至下依次设置得到的;改性聚氨酯多孔材料和改性聚氨酯保护膜均由改性聚氨酯通过模具制备得到的;本发明通过改性聚氨酯来替代现有吸附垫的聚氨酯多孔材料和聚氨酯保护膜,使得吸附垫同时兼具着耐磨性能、耐高温性能以及抗菌性能,避免细菌附着,影响吸附垫加工时的质量。

    一种用于抛光的多孔高弹缓冲阻尼布及其制备工艺

    公开(公告)号:CN116638451A

    公开(公告)日:2023-08-25

    申请号:CN202310632628.2

    申请日:2023-05-31

    摘要: 本发明公开了一种用于抛光的多孔高弹缓冲阻尼布及其制备工艺,属于用于阻尼布技术领域。本发明的一种用于抛光的多孔高弹缓冲阻尼布及其制备工艺,包括尼布基材层、热熔胶层、EVA海绵层、长毛绒圈层以及阻尼布面布层,阻尼布面布层、阻尼布基材层、EVA海绵层、长毛绒圈层从上至下依次设置,其中,热熔胶层设置在阻尼布面布层、阻尼布基材层、EVA海绵层和长毛绒圈层之间用于连接。本发明解决了现有的问题,本发明由高密度海绵以及低密封海绵两者装配时,凹凸的连接处,可以能够最大程度的抵抗旋转的扭矩,避免阻尼布在使用过程中产生分离的问题。能够起到较好的过滤抛光屑的目的,将抛光屑留在海绵层,避免划伤工件。