触控面板及其制造方法
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102736764B

    公开(公告)日:2015-08-12

    申请号:CN201110097222.6

    申请日:2011-04-04

    IPC分类号: G06F3/041

    CPC分类号: G06F3/044 G06F2203/04103

    摘要: 本发明触控技术领域,尤其涉及一种触控面板及其制造方法。本发明公开的触控面板包括电极层和保护层,所述保护层覆盖于所述电极层上,所述电极层上包括多个间隔设置的透明电极,所述保护层中包括有折射率大于1.8的透明金属氧化物,使该保护层的折射率与所述透明电极的折射率相匹配以达到面板均匀可视。通过本发明触控面板制造方法,在保护层材料中添加有高折射率的氧化物材料,并填充于透明电极层的蚀刻区域中,可使透明电极层的蚀刻区域与ITO区域的光学反射率趋近相同,减少ITO区域与蚀刻区域的反射率曲线差异,从而使以达到透明电极图案不可见的效果。

    触控面板及其制造方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102736764A

    公开(公告)日:2012-10-17

    申请号:CN201110097222.6

    申请日:2011-04-04

    IPC分类号: G06F3/041

    CPC分类号: G06F3/044 G06F2203/04103

    摘要: 本发明触控技术领域,尤其涉及一种触控面板及其制造方法。本发明公开的触控面板包括电极层和保护层,所述保护层覆盖于所述电极层上,所述电极层上包括多个间隔设置的透明电极,所述保护层中包括有折射率大于1.8的透明金属氧化物,使该保护层的折射率与所述透明电极的折射率相匹配以达到面板均匀可视。通过本发明触控面板制造方法,在保护层材料中添加有高折射率的氧化物材料,并填充于透明电极层的蚀刻区域中,可使透明电极层的蚀刻区域与ITO区域的光学反射率趋近相同,减少ITO区域与蚀刻区域的反射率曲线差异,从而使以达到透明电极图案不可见的效果。

    触控面板
    10.
    实用新型

    公开(公告)号:CN202110510U

    公开(公告)日:2012-01-11

    申请号:CN201120106077.9

    申请日:2011-04-04

    IPC分类号: G06F3/041

    摘要: 本实用新型触控技术领域,尤其涉及一种触控面板。本实用新型公开的触控面板包括电极层和保护层,所述保护层覆盖于所述电极层上,所述电极层上包括多个间隔设置的透明电极,所述保护层中包括有折射率大于1.8的透明金属氧化物,使该保护层的折射率与所述透明电极的折射率相匹配以达到面板均匀可视,以达到透明电极图案不可见的效果,从而使触控面板具有良好的光学性能。