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公开(公告)号：CN103482635A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：CN201310070009.5
申请日：2013-03-05
申请人： 富士施乐株式会社
IPC分类号： C01B33/18
CPC分类号： C07F7/10 , Y02P20/544
摘要： 本发明提供了一种制备二氧化硅复合颗粒的方法，所述方法包括处理二氧化硅颗粒，其中，所述处理是指在超临界二氧化碳中用金属化合物处理二氧化硅颗粒，且在所述金属化合物中，金属原子通过氧原子与有机基团结合，并且所述金属原子选自由Ti、Al、Zr、V和Mg组成的组。
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公开(公告)号：CN103965658A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201310342722.0
申请日：2013-08-08
申请人： 富士施乐株式会社
CPC分类号： C09C1/309 , C01P2004/51 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C09C1/3054 , C09C1/3063 , C09C1/3081 , Y10T428/2982
摘要： 本发明涉及二氧化硅复合颗粒及其制备方法。在所述二氧化硅复合颗粒中，二氧化硅颗粒的表面依次受到钛化合物和疏水化剂的表面处理，在所述钛化合物中，有机基团通过氧原子与钛原子键合，其中，使用荧光X射线测定的二氧化硅复合颗粒中的钛含量为0.001重量%～10重量%；所述二氧化硅复合颗粒的表面层的钛含量满足下式(1)；所述二氧化硅复合颗粒的平均粒径为30nm～500nm；并且所述二氧化硅复合颗粒的粒径分布指数为1.1～1.5：0.6
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公开(公告)号：CN104076626B
公开(公告)日：2019-07-30
申请号：CN201310399705.0
申请日：2013-09-05
申请人： 富士施乐株式会社
CPC分类号： G03G9/08 , G03G9/0806 , G03G9/0819 , G03G9/0827 , G03G9/08755 , G03G9/08795 , G03G9/08797 , G03G9/09725
摘要： 本发明涉及静电荷图像显影用色调剂、静电荷图像显影剂、色调剂盒、处理盒、图像形成设备和图像形成方法，所述色调剂包含色调剂颗粒和二氧化硅颗粒，所述二氧化硅颗粒具有在表面层中为0.001重量%～10重量%的钛含量、30nm～500nm的平均粒径和1.1～1.5的粒径分布指数，并且依次使用其中有机基团与钛原子经由氧原子连接的钛化合物和疏水化剂进行了表面处理。
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公开(公告)号：CN104212203B
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：CN201310659574.5
申请日：2013-12-09
申请人： 富士施乐株式会社
CPC分类号： C09C1/3063 , C01P2004/51 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C09C1/3054 , C09C1/3081 , C09C1/309 , Y10T428/2982
摘要： 本发明公开了一种二氧化硅复合颗粒及其制造方法，其中所述二氧化硅颗粒用铝化合物进行表面处理，在所述铝化合物中有机基团经氧原子而连接至铝原子，所述二氧化硅复合颗粒的铝表面覆盖率为0.01原子%至30原子%、平均粒度为30nm至500nm、并且粒度分布指数为1.1至1.5。
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公开(公告)号：CN104212203A
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201310659574.5
申请日：2013-12-09
申请人： 富士施乐株式会社
CPC分类号： C09C1/3063 , C01P2004/51 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C09C1/3054 , C09C1/3081 , C09C1/309 , Y10T428/2982
摘要： 本发明公开了一种二氧化硅复合颗粒及其制造方法，其中所述二氧化硅颗粒用铝化合物进行表面处理，在所述铝化合物中有机基团经氧原子而连接至铝原子，所述二氧化硅复合颗粒的铝表面覆盖率为0.01原子%至30原子%、平均粒度为30nm至500nm、并且粒度分布指数为1.1至1.5。
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公开(公告)号：CN104076626A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201310399705.0
申请日：2013-09-05
申请人： 富士施乐株式会社
CPC分类号： G03G9/08 , G03G9/0806 , G03G9/0819 , G03G9/0827 , G03G9/08755 , G03G9/08795 , G03G9/08797 , G03G9/09725
摘要： 本发明涉及静电荷图像显影用色调剂、静电荷图像显影剂、色调剂盒、处理盒、图像形成设备和图像形成方法，所述色调剂包含色调剂颗粒和二氧化硅颗粒，所述二氧化硅颗粒具有在表面层中为0.001重量%～10重量%的钛含量、30nm～500nm的平均粒径和1.1～1.5的粒径分布指数，并且依次使用其中有机基团与钛原子经由氧原子连接的钛化合物和疏水化剂进行了表面处理。
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