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公开(公告)号:CN100419575C
公开(公告)日:2008-09-17
申请号:CN200410011789.7
申请日:2004-09-29
申请人: 富士胶片株式会社
CPC分类号: G03C1/49818 , C09K11/7733 , G03C1/0051 , G03C1/46 , G03C1/498 , G03C1/49845 , G03C5/17 , G03C2001/03558 , G03C2001/7425 , G03C2005/168 , G21K4/00 , Y10S430/167 , Y10S430/168
摘要: 一种应用X-射线曝光光热照相材料的图像形成方法,所述的光热照相材料在载体的至少一个表面具有包含至少光敏卤化银、非光敏有机银盐、银离子还原剂和粘合剂的图像形成层,在该方法中使所述光热照相材料与包括荧光材料的荧光增强屏紧密接触,该荧光材料发射光,所述光的50%或以上的波长为350nm或以上和420nm或以下。
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公开(公告)号:CN1603947A
公开(公告)日:2005-04-06
申请号:CN200410011789.7
申请日:2004-09-29
申请人: 富士胶片株式会社
CPC分类号: G03C1/49818 , C09K11/7733 , G03C1/0051 , G03C1/46 , G03C1/498 , G03C1/49845 , G03C5/17 , G03C2001/03558 , G03C2001/7425 , G03C2005/168 , G21K4/00 , Y10S430/167 , Y10S430/168
摘要: 一种应用X-射线曝光光热照相材料的图像形成方法,所述的光热照相材料在载体的至少一个表面具有包含至少光敏卤化银、非光敏有机银盐、银离子还原剂和粘合剂的图像形成层,在该方法中使所述光热照相材料与包括荧光材料的荧光增强屏紧密接触,该荧光材料发射光,所述光的50%或以上的波长为350nm或以上和420nm或以下。
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