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公开(公告)号:CN1396493A
公开(公告)日:2003-02-12
申请号:CN02105093.7
申请日:2002-02-20
申请人: 学校法人浦项工科大学校
CPC分类号: G03F7/38 , G03F7/00 , G03F7/0005 , Y10S430/146 , Y10S430/168
摘要: 一种应用X射线制造微型构造的方法,包括以下步骤:选择感光材料的一个部位暴露于高能光源中,该选择暴光步骤通过一个用于限定微型构造的图形的光掩模来完成,以及进行仅使感光材料暴光部分的上部熔化和变形的一个热处理步骤,当感光材料暴光部分的上部被暴露于X射线中时,它受到大约1kJ/cm3-20kJ/cm3的能级的作用。
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公开(公告)号:CN1322309A
公开(公告)日:2001-11-14
申请号:CN99811798.6
申请日:1999-10-05
申请人: 纳幕尔杜邦公司
发明人: Y·王
CPC分类号: G03F7/027 , B33Y70/00 , G03F7/0037 , G03F7/038 , Y10S430/106 , Y10S430/107 , Y10S430/108 , Y10S430/11 , Y10S430/111 , Y10S430/143 , Y10S430/146 , Y10S430/154 , Y10S430/167 , Y10S430/168
摘要: 本发明公开了在曝光于电离辐射,如X射线、电子束、离子束和γ射线时可成象聚合/交联的组合物。本发明还公开了使用这些组合物进行陶瓷显微制造、立体平版印刷及可用于光刻胶的X射线、电子束和离子束平版印刷的方法。
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公开(公告)号:CN1194262C
公开(公告)日:2005-03-23
申请号:CN01137922.7
申请日:2001-11-06
申请人: 伊斯曼柯达公司
CPC分类号: G03C5/16 , G03C1/46 , G03C5/17 , G03C5/26 , G03C2001/0055 , G03C2001/03511 , G03C2001/03564 , G03C2001/7635 , G03C2005/168 , G03C2007/3025 , G03C2200/26 , G03C2200/27 , G03C2200/52 , Y10S430/167 , Y10S430/168
摘要: 高性能射线摄影胶片,当以该两面带有增感屏的射线摄影成像组件成像时,呈现视觉适应性反差。这些胶片在其支持体的两面都涂有单个卤化银乳剂层,而没有常规用于控制交岔度的粒状染料。此外,本胶片可以快速加工以提供所要求的具有视觉适应性反差的影像,即高阶曝光区反差至少是低阶曝光区反差的1.5倍。这样在射线摄影影像的较高密度区可以更好地看到强反差物像,而对较低曝光区的密度感光测定特性没有不良影响。这些胶片对于使用各种各样曝光和冲洗加工条件的通用射线摄影成像法甚为适用。
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公开(公告)号:CN1499285A
公开(公告)日:2004-05-26
申请号:CN200310102654.7
申请日:2003-10-28
申请人: 伊斯曼柯达公司
CPC分类号: G03C1/49845 , Y10S430/166 , Y10S430/167 , Y10S430/168
摘要: 本发明公开了热可显影组合物比如热敏和光热敏乳剂,它包括某些季2,3-二氮杂萘化合物。这些乳剂可用于热可显影材料中,比如热敏材料和光热敏材料,由此可获得改善的感光测定性能和后冲洗性能。这类材料在支持体一面或双面上均可带有成象层。
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公开(公告)号:CN1236906A
公开(公告)日:1999-12-01
申请号:CN99107670.2
申请日:1999-05-27
申请人: 伊斯曼柯达公司
IPC分类号: G03C1/10
CPC分类号: G03C5/17 , G03C1/0051 , G03C1/10 , G03C1/34 , G03C5/16 , G03C2001/03511 , G03C2007/3025 , Y10S430/167 , Y10S430/168
摘要: 本发明涉及一种用于高能量电离辐射曝光的卤化银射线照相术产品。本发明还涉及一种形成射线照相术图像的新型射线照相术系统和方法。本发明的用于工业射线照相术的产品使潜像的保持能力得到提高,并提供了更高的感光速率。
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公开(公告)号:CN100419575C
公开(公告)日:2008-09-17
申请号:CN200410011789.7
申请日:2004-09-29
申请人: 富士胶片株式会社
CPC分类号: G03C1/49818 , C09K11/7733 , G03C1/0051 , G03C1/46 , G03C1/498 , G03C1/49845 , G03C5/17 , G03C2001/03558 , G03C2001/7425 , G03C2005/168 , G21K4/00 , Y10S430/167 , Y10S430/168
摘要: 一种应用X-射线曝光光热照相材料的图像形成方法,所述的光热照相材料在载体的至少一个表面具有包含至少光敏卤化银、非光敏有机银盐、银离子还原剂和粘合剂的图像形成层,在该方法中使所述光热照相材料与包括荧光材料的荧光增强屏紧密接触,该荧光材料发射光,所述光的50%或以上的波长为350nm或以上和420nm或以下。
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公开(公告)号:CN100337161C
公开(公告)日:2007-09-12
申请号:CN02802641.1
申请日:2002-09-12
申请人: 松下电器产业株式会社
IPC分类号: G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号: G03F7/0395 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/111 , Y10S430/115 , Y10S430/146 , Y10S430/167 , Y10S430/168
摘要: 一种具有含以[化1]表示的单元的基体树脂和酸产生剂的图案形成材料,[化1](其中,R1是氢原子、氯原子、氟原子、烷基或含氟原子烷基;R2是由酸而离去的保护基)。
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公开(公告)号:CN1333307C
公开(公告)日:2007-08-22
申请号:CN200410063569.9
申请日:2004-07-12
申请人: 海力士半导体有限公司
发明人: 郑载昌
CPC分类号: G03F7/11 , G03F7/0392 , Y10S430/168
摘要: 本发明公开用于光致抗蚀的保护涂层组合物及使用该组合物的方法。详言之,公开包含可稳定地将酸变弱的材料的用于光致抗蚀的保护涂层组合物。该等材料中和大量在光致抗蚀薄膜顶部所产生的酸,以使该酸的垂直分布一致化。结果可得到小于100nm厚度的垂直且精细的图案。
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公开(公告)号:CN1291274C
公开(公告)日:2006-12-20
申请号:CN02105093.7
申请日:2002-02-20
申请人: 学校法人浦项工科大学校
CPC分类号: G03F7/38 , G03F7/00 , G03F7/0005 , Y10S430/146 , Y10S430/168
摘要: 一种应用X射线制造微型构造的方法,包括以下步骤:选择感光材料的一个部位暴露于高能光源中,该选择暴光步骤通过一个用于限定微型构造的图形的光掩模来完成,以及进行仅使感光材料暴光部分的上部熔化和变形的一个热处理步骤,当感光材料暴光部分的上部被暴露于X射线中时,它受到大约1kJ/cm3-20kJ/cm3的能级的作用。
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公开(公告)号:CN1532630A
公开(公告)日:2004-09-29
申请号:CN200410033005.0
申请日:2004-03-26
申请人: 伊斯曼柯达公司
CPC分类号: G03C5/16 , G03C1/0051 , G03C1/047 , G03C1/346 , G03C1/46 , G03C5/17 , G03C5/26 , G03C2001/0055 , G03C2001/03511 , G03C2007/3025 , G03C2200/27 , G03C2200/40 , G03C2200/52 , Y10S430/167 , Y10S430/168
摘要: 一种感蓝的、射线照相卤化银胶片,包括一个卤化银乳剂层,其主要包括片状卤化银颗粒,所述颗粒具有至少15的纵横比、至少0.1μm的颗粒厚度,且基于总的卤化银,所述颗粒包括至少90mol%的溴化物和0.5到2.75mol%的碘化物。实质上所有碘化物都存在于除了颗粒表面之外的、片状卤化银颗粒的内部局部部分中。片状卤化银颗粒分散在亲水性的聚合载体混合物中,基于乳剂层中所述聚合载体混合物的总干重,所述聚合载体混合物包括至少0.5%的氧化明胶。另外所述片状颗粒乳剂包括巯基取代的苯并噻唑、苯并噁唑或苯并咪唑,以提供希望的图象色调和冲洗能力。
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