公开(公告)号：CN118451368A

公开(公告)日：2024-08-06

申请号：CN202280081178.6

申请日：2022-11-30

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 涩谷爱菜 ,  上村稔 ,  金子明弘 ,  小岛雅史 ,  后藤研由

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种在形成极微细的图案时的LWR性能及分辨率优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含含有阴离子及具有特定取代基的阳离子的化合物(N)和通过酸的作用分解而极性增大的树脂(A)。

公开(公告)号：CN118749087A

公开(公告)日：2024-10-08

申请号：CN202380023504.2

申请日：2023-01-26

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 户次洋佑 ,  涩谷爱菜 ,  小岛雅史 ,  后藤研由 ,  丸茂和博

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，该感光化射线性或感放射线性树脂组合物在极微细的图案形成中，能够形成CDU优异的图案，即使在制备后经时之后，亦能够形成CDU优异的图案。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有由通式(Q1)表示的化合物(C)、及酸分解性树脂(A)。#imgabs0#Ar1表示芳香族基团。W1表示有机基团。X1表示包含选自由‑O‑、‑S‑、‑C(＝O)‑、‑S(＝O)‑及‑S(＝O)2‑所组成的组中的至少一个的连接基团。Y1表示吸电子基团。Z1表示卤素原子。M+表示阳离子。k1表示1以上的整数。k2表示1以上的整数。其中，‑X1‑W1‑所表示的基团不包含*1‑O‑C(＝O)‑*2。*1及*2表示键结位置。*1是与Ar1的键结位置。