-
公开(公告)号：CN113168100B
公开(公告)日：2024-12-17
申请号：CN202080006371.4
申请日：2020-01-14
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种即使在长期保存情况下也能得到LWR性能优异的图案的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或感辐射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感辐射线性树脂组合物包含由通式(I)表示的化合物和酸分解性树脂。M1+A‑‑L‑B‑M2+ (I)
-
公开(公告)号：CN110537148B
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN201880026076.8
申请日：2018-04-12
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种Z‑因子良好且能够形成图案崩塌得到抑制的图案的EUV光用感光性组合物、图案形成方法及电子器件的制造方法。EUV光用感光性组合物含有规定的树脂及光产酸剂，或者含有具有含光产酸基团的重复单元的规定的树脂，且满足要件1和要件2。要件1：由式(1)求出的A值为0.14以上。式(1)：A＝([H]×0.04+[C]×1.0+[N]×2.1+[O]×3.6+[F]×5.6+[S]×1.5+[I]×39.5)/([H]×1+[C]×12+[N]×14+[O]×16+[F]×19+[S]×32+[I]×127)。要件2：EUV光用感光性组合物中的固体成分浓度为2.5质量％以下。
-
公开(公告)号：CN113166312A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN202080006761.1
申请日：2020-01-16
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够形成分辨率优异且LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含树脂以及通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物，其中，由式(1)求出的A值为0.130以上，且通过上述光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物包含选自由化合物(I)～化合物(III)组成的组中的1种以上。
-
公开(公告)号：CN111788525B
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN201980015829.X
申请日：2019-02-19
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题在于，提供一种所形成的图案的LER及崩塌抑制能力优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，本发明的另一课题在于，提供一种使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。并且，本发明的另一课题在于，提供一种能够用于上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的树脂。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物及通过酸的作用而极性增大的树脂，其中，上述树脂包含通式(B‑1)所表示的重复单元，并且上述通式(B‑1)所表示的重复单元的含量相对于上述树脂中的所有重复单元为5～70质量％。通式(B‑1)中，R1表示氢原子或有机基团。环W1表示至少包含1个碳原子及1个氮原子，并且任选地具有取代基的环。
-
公开(公告)号：CN109643063B
公开(公告)日：2022-07-22
申请号：CN201780052943.0
申请日：2017-08-23
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种含有树脂和通过活性光线或放射线的照射产生酸的化合物的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。其中，上述树脂包含由下述通式(I‑1)表示的重复单元(a)和具有通过酸的作用包含单环的保护基脱离产生极性基的基团的重复单元(b)。式中，R11及R12分别独立地表示氢原子或烷基。R13表示氢原子或烷基、或者是单键或亚烷基，且与式中的L或Ar键合形成环。L表示单键或2价的连接基团。Ar表示芳香环。n表示2以上的整数。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112639620A
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN201980057549.5
申请日：2019-08-13
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明能够提供一种LER性能及崩塌抑制能力优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含通过酸的作用而极性增大的树脂及通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物，该感光化射线性或感放射线性树脂组合物中，树脂具有由通式(B‑1)表示的重复单元。
-
公开(公告)号：CN111788525A
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201980015829.X
申请日：2019-02-19
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题在于，提供一种所形成的图案的LER及崩塌抑制能力优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，本发明的另一课题在于，提供一种使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。并且，本发明的另一课题在于，提供一种能够用于上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的树脂。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物及通过酸的作用而极性增大的树脂，其中，上述树脂包含通式(B‑1)所表示的重复单元，并且上述通式(B‑1)所表示的重复单元的含量相对于上述树脂中的所有重复单元为5～70质量％。通式(B‑1)中，R1表示氢原子或有机基团。环W1表示至少包含1个碳原子及1个氮原子，并且任选地具有取代基的环。
-
公开(公告)号：CN111512229A
公开(公告)日：2020-08-07
申请号：CN201880082630.4
申请日：2018-10-30
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种可获得灵敏度优异的抗蚀剂膜且可获得LER性能优异的图案，并且能够抑制图案形成时的图案崩塌的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法、带抗蚀剂膜的空白掩模、光罩的制造方法以及电子元件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含：树脂X，其具有以通式(I)表示的重复单元A、具有酸分解性基的重复单元B以及选自由以通式(II)表示的重复单元c1等的重复单元C；化合物Y，其为通过光化射线或放射线的照射而碱性降低的碱性化合物或铵盐化合物；及光产酸剂Z，其为化合物Y以外的化合物。
-
公开(公告)号：CN110537148A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201880026076.8
申请日：2018-04-12
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种Z-因子良好且能够形成图案崩塌得到抑制的图案的EUV光用感光性组合物、图案形成方法及电子器件的制造方法。EUV光用感光性组合物含有规定的树脂及光产酸剂，或者含有具有含光产酸基团的重复单元的规定的树脂，且满足要件1和要件2。要件1：由式(1)求出的A值为0.14以上。式(1)：A＝([H]×0.04+[C]×1.0+[N]×2.1+[O]×3.6+[F]×5.6+[S]×1.5+[I]×39.5)/([H]×1+[C]×12+[N]×14+[O]×16+[F]×19+[S]×32+[I]×127)。要件2：EUV光用感光性组合物中的固体成分浓度为2.5质量％以下。
-
公开(公告)号：CN104204933B
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201380017468.5
申请日：2013-03-27
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C07D207/44
Abstract: 本发明提供具有良好的非线性光学性能、耐光性、耐升华性、耐热性、并且在电场极化时的稳定性也优异的非线性光学材料和使用其的非线性光学元件。一种有机非线性光学材料，其含有下述通式(I)所表示的化合物与高分子粘结剂。通式(I)中，R1和R2各自独立地表示取代或无取代的烷基、或者取代或无取代的芳基。R3表示氢原子、取代或无取代的烷基、或者取代或无取代的芳基。L表示将具有二氰基亚甲基的氧代吡咯啉环与氮原子经π共轭系连接、且在π共轭系含有偶氮基(‑N＝N‑)的二价连接基团。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
22
records
(took 0.023 seconds)
