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公开(公告)号：CN111164686B
公开(公告)日：2021-06-08
申请号：CN201880063019.7
申请日：2018-09-11
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种磁带以及包括该磁带的磁记录回放装置，所述磁带在非磁性支撑体上具有包含强磁性粉末及粘结剂的磁性层，其中，磁性层包含氧化物研磨剂，根据对磁性层的表面照射聚焦离子束来获取的二次离子像求出的氧化物研磨剂的平均粒径大于0.08μm且为0.14μm以下，且在磁性层的面内方向上测量的折射率Nxy与在磁性层的厚度方向上测量的折射率Nz的差分的绝对值ΔN为0.25以上且0.40以下。
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公开(公告)号：CN101901825A
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN201010130304.1
申请日：2010-03-05
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: H01L51/5268 , B82Y20/00 , B82Y30/00 , H01L2251/5369
Abstract: 本发明提供一种有机电致发光显示装置，所述有机电致发光显示装置包括：有机电致发光元件和含细粒层，所述有机电致发光元件包括透明电极、对电极和被安置在这些电极之间的有机化合物层，所述有机化合物层包括发光层，所述含细粒层被布置在从所述发光层发射的光的光程上，其中所述含细粒层含有有机树脂材料、第一细粒和第二细粒，所述第二细粒的重量平均粒径大于所述第一细粒的重量平均粒径，其中第一细粒被加入到其中的所述有机树脂材料的折射率n1和所述有机化合物层的平均折射率n2满足|n1-n2|＜0.25的关系，并且其中第一细粒被加入到其中的所述有机树脂材料的折射率n1和第二细粒的折射率n3满足n3-n1＞0.2的关系。
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公开(公告)号：CN101800241A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN201010113444.8
申请日：2010-02-03
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: H01L51/5268 , H01L27/3274 , H01L51/5271
Abstract: 本发明提供一种有机电致发光显示装置，其包括：有机电致发光元件，所述有机电致发光元件包括透明电极、对电极和被安置在所述透明电极和所述对电极之间的有机化合物层，所述有机化合物层包括发光层；和含细粒层，所述含细粒层被布置在从所述发光层发射的光的光程上并且与所述透明电极相邻，其中所述含细粒层含有有机树脂材料和细粒，所述有机树脂材料的折射率等于或低于所述透明电极的折射率，所述细粒的折射率高于所述有机树脂材料的折射率并且重量平均粒径为0.5μm至5μm，并且所述含细粒层的厚度为2μm至10μm。
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公开(公告)号：CN113436654A
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：CN202110765961.1
申请日：2018-09-11
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G11B5/708 , G11B5/008 , G11B5/68 , G11B5/70 , G11B5/706 , G11B5/712 , G11B5/714 , G11B5/735 , G11B5/78
Abstract: 本发明提供一种磁带以及包括该磁带的磁记录回放装置，所述磁带在非磁性支撑体上具有包含强磁性粉末及粘结剂的磁性层，其中，磁性层包含氧化物研磨剂，根据对磁性层的表面照射聚焦离子束来获取的二次离子像求出的上述氧化物研磨剂的平均粒径为0.04μm以上且0.08μm以下，且在磁性层的面内方向上测量的折射率Nxy与在磁性层的厚度方向上测量的折射率Nz的差分的绝对值ΔN为0.25以上且0.40以下。
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公开(公告)号：CN111164685A
公开(公告)日：2020-05-15
申请号：CN201880062980.4
申请日：2018-09-11
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种磁带以及包括该磁带的磁记录回放装置，所述磁带在非磁性支撑体上具有包含强磁性粉末及粘结剂的磁性层，其中，磁性层包含氧化物研磨剂，根据对磁性层的表面照射聚焦离子束来获取的二次离子像求出的上述氧化物研磨剂的平均粒径为0.04μm以上且0.08μm以下，且在磁性层的面内方向上测量的折射率Nxy与在磁性层的厚度方向上测量的折射率Nz的差分的绝对值ΔN为0.25以上且0.40以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107073520A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580056689.2
申请日：2015-11-06
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明涉及一种膜的制造方法及其应用，所述膜的制造方法包括：在基材上涂布水性涂布液而形成涂布膜的工序，所述水性涂布液包含水、作为二氧化硅粒子的平均一次粒径为8nm以下的一种无孔二氧化硅粒子、表面活性剂，且pH为1.5～3.5；及将涂布形成的涂布膜进行干燥的工序。
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公开(公告)号：CN102650704A
公开(公告)日：2012-08-29
申请号：CN201210042987.4
申请日：2012-02-22
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02B5/04 , B32B27/14 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/0226 , B32B2307/40 , B32B2307/412 , B32B2457/20 , B32B2457/202 , G02B5/0231 , G02B5/0278 , G02B6/0051 , Y10T428/24372 , Y10T428/265
Abstract: 本发明提供一种不具有彩虹状不均匀性的可稳定制造的光学层压膜和显示装置。光学层压膜包括：支撑体；易粘层，提供于支撑体的一个表面上；以及透明层，由半透明树脂制成，且提供于支撑体的另一表面上，其中透明层含有半透明颗粒，半透明颗粒的体积平均颗粒直径r满足0.4μm≤r≤3.0μm，半透明颗粒的总和S满足30mg/m2≤S≤500mg/m2，且透明层的平均膜厚度t满足r/4≤t＜r。
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公开(公告)号：CN113436653B
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN202110765953.7
申请日：2018-09-11
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G11B5/708 , G11B5/008 , G11B5/68 , G11B5/70 , G11B5/706 , G11B5/712 , G11B5/714 , G11B5/735 , G11B5/78
Abstract: 本发明提供一种磁带以及包括该磁带的磁记录回放装置，所述磁带在非磁性支撑体上具有包含强磁性粉末及粘结剂的磁性层，其中，磁性层包含氧化物研磨剂，根据对磁性层的表面照射聚焦离子束来获取的二次离子像求出的上述氧化物研磨剂的平均粒径为0.04μm以上且0.08μm以下，且在磁性层的面内方向上测量的折射率Nxy与在磁性层的厚度方向上测量的折射率Nz的差分的绝对值ΔN为0.25以上且0.40以下。
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公开(公告)号：CN111164685B
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201880062980.4
申请日：2018-09-11
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种磁带以及包括该磁带的磁记录回放装置，所述磁带在非磁性支撑体上具有包含强磁性粉末及粘结剂的磁性层，其中，磁性层包含氧化物研磨剂，根据对磁性层的表面照射聚焦离子束来获取的二次离子像求出的上述氧化物研磨剂的平均粒径为0.04μm以上且0.08μm以下，且在磁性层的面内方向上测量的折射率Nxy与在磁性层的厚度方向上测量的折射率Nz的差分的绝对值ΔN为0.25以上且0.40以下。
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公开(公告)号：CN111164686A
公开(公告)日：2020-05-15
申请号：CN201880063019.7
申请日：2018-09-11
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种磁带以及包括该磁带的磁记录回放装置，所述磁带在非磁性支撑体上具有包含强磁性粉末及粘结剂的磁性层，其中，磁性层包含氧化物研磨剂，根据对磁性层的表面照射聚焦离子束来获取的二次离子像求出的氧化物研磨剂的平均粒径大于0.08μm且为0.14μm以下，且在磁性层的面内方向上测量的折射率Nxy与在磁性层的厚度方向上测量的折射率Nz的差分的绝对值ΔN为0.25以上且0.40以下。
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