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公开(公告)号：CN101121908B
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：CN200610109737.2
申请日：2006-08-09
申请人： 富士通株式会社
IPC分类号： C10M107/38 , G11B5/725 , G11B5/255
CPC分类号： G11B5/725 , C10M107/38 , C10M147/04 , C10M2213/04 , C10N2220/021 , C10N2230/56 , C10N2240/204 , C10N2250/141 , G11B5/255 , Y10T428/1164 , Y10T428/1179
摘要： 本发明提供了一种润滑剂，在磁记录装置中，其被作磁记录介质的润滑剂层和/或滑动头的润滑剂层时，使润滑剂层的厚度很薄。即使是高分子量，也可以获得足够薄的单分子层膜厚度。在不降低飞行稳定性的情况下，在广的温度范围内提高了可靠性。该润滑剂包括含氟聚合物，润滑剂有如下关系：Y
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公开(公告)号：CN1702739A
公开(公告)日：2005-11-30
申请号：CN200510052626.8
申请日：2005-03-07
申请人： 富士通株式会社
摘要： 提供一种几乎没有污染物粘着的磁头滑动器和一种配备有该磁头滑动器的磁记录装置，该磁头滑动器能够形成均匀平坦的磁头润滑层表面，并具有优异的超低浮动性。该磁头滑动器配备有磁头滑动器润滑层，该磁头滑动器润滑层具有小于等于2.5nm的平均膜厚度，并且由防水树脂构成，该润滑层形成于面向该磁记录介质的磁头滑动器表面和磁头滑动器保护层表面上，使用Fowkes公式所确定的磁头滑动器润滑层的表面张力小于等于该磁头滑动器表面和磁头滑动器保护层表面的表面张力。
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公开(公告)号：CN101121908A
公开(公告)日：2008-02-13
申请号：CN200610109737.2
申请日：2006-08-09
申请人： 富士通株式会社
IPC分类号： C10M107/38 , G11B5/725 , G11B5/255
CPC分类号： G11B5/725 , C10M107/38 , C10M147/04 , C10M2213/04 , C10N2220/021 , C10N2230/56 , C10N2240/204 , C10N2250/141 , G11B5/255 , Y10T428/1164 , Y10T428/1179
摘要： 本发明提供了一种润滑剂，在磁记录装置中，其被作磁记录介质的润滑剂层和/或滑动头的润滑剂层时，使润滑剂层的厚度很薄。即使是高分子量，也可以获得足够薄的单分子层膜厚度。在不降低飞行稳定性的情况下，在广的温度范围内提高了可靠性。该润滑剂包括含氟聚合物，润滑剂有如下关系：Y＜－1.4475X+2.815，其中Y是23℃时扩散系数的自然对数(单位：μm2/s)；X是20℃时的粘度(单位：Pas)，或它包含有特定结构的含氟聚合物，并且相邻的极性基团之间的分子链的数均分子量不小于500。
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公开(公告)号：CN1322490C
公开(公告)日：2007-06-20
申请号：CN200510052626.8
申请日：2005-03-07
申请人： 富士通株式会社
摘要： 提供一种几乎没有污染物粘着的磁头滑动器和一种配备有该磁头滑动器的磁记录装置，该磁头滑动器能够形成均匀平坦的磁头润滑层表面，并具有优异的超低浮动性。该磁头滑动器配备有磁头滑动器润滑层，该磁头滑动器润滑层具有小于等于2.5nm的平均膜厚度，并且由防水树脂构成，该润滑层形成于面向该磁记录介质的磁头滑动器表面和磁头滑动器保护层表面上，使用Fowkes公式所确定的磁头滑动器润滑层的表面张力小于等于该磁头滑动器表面和磁头滑动器保护层表面的表面张力。
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