公开(公告)号：CN111778477B

公开(公告)日：2022-09-20

申请号：CN202010556493.2

申请日：2020-06-17

申请人： 富联裕展科技(深圳)有限公司

发明人： 张磊 ,  王仲培 ,  秦安立

IPC分类号： C23C14/06 ,  C23C14/35

摘要： 镀膜件、电子设备及镀膜件的制造方法，镀膜件包括基体、形成于基体表面的颜色层和形成于颜色层表面的干涉层；颜色层包括铬原子和碳原子，碳原子的质量百分比为20％‑60％，以使得颜色层呈现的色度区域在CIE‑LAB颜色模型系统中对应的L*值坐标在预设范围内；干涉层包括铝原子、钛原子及氮原子；上述L*值的坐标在预设范围内时，镀膜件的最终颜色与颜色层的颜色相同或不同。本发明的镀膜件通过干涉层对颜色层所反射的光线的干涉，使镀膜件具有特定的色彩，通过调整干涉层的厚度，可以得到多目标色、广色域的多个镀膜件。

公开(公告)号：CN114686825A

公开(公告)日：2022-07-01

申请号：CN202011615028.8

申请日：2020-12-30

申请人： 富联裕展科技(深圳)有限公司

发明人： 秦安立 ,  薛世初 ,  张磊

IPC分类号： C23C14/34 ,  C23C14/35 ,  C23C14/14 ,  C23C14/54

摘要： 一种控制PVD镀膜的方法，包括：将工件置于PVD镀膜设备中，镀膜设备包括靶材，在镀膜设备中通入惰性气体；以及在靶材上施加电能以产生辉光放电，激发惰性气体产生正离子，正离子轰击靶材以产生靶材原子，靶材原子沉积在工件表面形成镀膜；在工件上施加负偏压以使正离子反溅射沉积在工件表面的靶材原子以控制镀膜速度，进而控制镀膜的厚度；其中，负偏压的电压值绝对值大于等于500V。

公开(公告)号：CN117835613A

公开(公告)日：2024-04-05

申请号：CN202311852951.7

申请日：2023-12-28

申请人： 富联裕展科技(深圳)有限公司

发明人： 黄耘晧 ,  薛世初 ,  张磊 ,  郭艳 ,  刘书宇 ,  廖伟博 ,  秦安立

IPC分类号： H05K5/02 ,  H01B17/62 ,  H01B19/04 ,  C23C14/06 ,  C23C14/34

摘要： 本申请提供一种壳体，包括基材层、惰性绝缘层和功能性镀层。所述基材层包括相互连接的金属基材和绝缘基材，所述惰性绝缘层形成于所述基材层表面至少覆盖部分所述绝缘基材，所述功能性镀层沉积形成于所述惰性绝缘层背离所述基材层的表面，通过惰性绝缘层膜减小基材层表面各区域导电性的差异，从而有利于避免电子积累改善电弧打火情况。本申请还提供一种电子设备和一种壳体的制作方法。