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公开(公告)号：CN117285037A
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN202311428964.1
申请日：2023-10-30
申请人： 山东华达新材料有限公司
IPC分类号： C01B32/215 , C01B32/21
摘要： 本发明公开了一种电子级多晶硅用等静压石墨件的纯化工艺，具体涉及等静压石墨件纯化技术领域，包括具体步骤：S1、抗氧化性处理，将等静压石墨件放入加热炉中加热；S2、浸泡处理；S3、清洗处理；S4、纯化材料制备；S5、石墨件涂布，石墨件放置在清洁干燥的工；S6、高温纯化处理。本发明通过炭黑填充聚合物为钛酸酯偶联剂、硅烷偶联剂、铝酸酯偶联剂、炭黑粉混合，形成抗氧化浸泡混合物，能够在整个电子级多晶硅用等静压石墨件外壁形成一层防腐抗氧化层，而且保持电子级多晶硅用等静压石墨件具有优异的导电性能，电子级多晶硅用等静压石墨件耐用性有效提高。
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公开(公告)号：CN118548773A
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202410948872.4
申请日：2024-07-16
申请人： 山东华达新材料有限公司
IPC分类号： G01B5/00
摘要： 本发明公开了一种石墨轴承凹槽测量装置，涉及轴承测量领域，解决了现有的测量装置难以插入石墨轴承的凹槽内进行精确测量的问题，包括：测量尺与顶座，所述测量尺的底部固定安装有底座，所述顶座的顶部固定连接有安装盒，所述安装盒的下方设置有轴承本体，所述安装盒的底部固定安装有定位架，所述测量尺靠近所述轴承本体的一面设置有测量座一，所述测量座一的下方设置有测量座二；还包括：调位机构，用于使所述测量座一与所述测量座二对齐所述轴承本体的凹槽，所述调位机构安装于所述顶座与所述底座之间；本发明通过调位机构，将测量座一与测量座二移动到轴承本体的凹槽内侧，从而达到了便于多更多尺寸石墨轴承进行测量的效果。
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公开(公告)号：CN117259063A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202311253669.7
申请日：2023-09-26
申请人： 山东华达新材料有限公司
IPC分类号： B05B13/02
摘要： 本发明公开了一种外延衬底用等静压石墨碳化钽涂层沉积设备，具体涉及涂层沉积设备技术领域，包括用于支撑的底座，所述底座的顶部设置有聚拢沉积组件，所述聚拢沉积组件包括用于支撑的连接板，所述连接板设置在底座的顶部。本发明通过各个结构的相应配合使用，两个第一加热板相互靠近对物料最先进行限位，避免出现后续物料在进行涂层沉积时出现移位现象，物料能够聚拢在第一加热板和第二加热板之间，以确保在涂层在进行沉积时能够聚拢在第一加热板、第二加热板和物料之间，提高沉积效率，再通过第二导板和第一导板所结合而成的梯形截面，能够持续使得涂层向下聚拢，使其密度更高。
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公开(公告)号：CN118392490A
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202410836328.0
申请日：2024-06-26
申请人： 山东华达新材料有限公司
摘要： 本发明公开了石墨轴承旋转精度检测装置及方法，涉及石墨轴承检测领域，解决了现有的检测装置难以对更多尺寸石墨轴承进行检测的问题，包括：底座与爪盘，所述爪盘的顶部设置有三个爪夹，所述爪盘的上方设置有压座，所述压座的外侧设置有三个压块，所述压座的上方设置有顶架，所述顶架的内侧固定安装有驱动电机，所述顶架的两端与所述底座之间均固定安装有电动伸缩杆；还包括：调节机构，用于使所述压块能够对更多尺寸的石墨轴承进行按压检测，所述调节机构安装于所述压座的外侧；本发明通过调节机构，三个爪夹对石墨轴承的外圈进行定位时，使三个压块之间的距离进行缩小，从而达到了便于对更多尺寸的石墨轴承进行检测的效果。
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公开(公告)号：CN117029485A
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202311171284.6
申请日：2023-09-12
申请人： 山东华达新材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种超声波刻蚀的等静压石墨提升强度焙烧炉，具体涉及等静压石墨焙烧技术领域，包括焙烧炉保温外壳，所述焙烧炉保温外壳的内部固定连接有焙烧炉，所述焙烧炉，所述焙烧炉的内部安装有多向活动机构；所述多向活动机构包括安装在焙烧炉内部的融合重力滚球。本发明采用多向活动机构在重力作用下融合重力滚球在支撑轴杆外壁滚动，联动支块带动凹形嵌槽环在环槽盖板内部的环形槽中旋转切换方向，联动环槽轴带动联动套接环旋转切换角度，支撑轴杆带动融合重力滚球在焙烧炉内部多方向无规则挤压滚动，大幅度提高焙烧效率，并且提升超声波刻蚀的等静压石墨提升强度。
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