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公开(公告)号：CN117259063A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202311253669.7
申请日：2023-09-26
申请人： 山东华达新材料有限公司
IPC分类号： B05B13/02
摘要： 本发明公开了一种外延衬底用等静压石墨碳化钽涂层沉积设备，具体涉及涂层沉积设备技术领域，包括用于支撑的底座，所述底座的顶部设置有聚拢沉积组件，所述聚拢沉积组件包括用于支撑的连接板，所述连接板设置在底座的顶部。本发明通过各个结构的相应配合使用，两个第一加热板相互靠近对物料最先进行限位，避免出现后续物料在进行涂层沉积时出现移位现象，物料能够聚拢在第一加热板和第二加热板之间，以确保在涂层在进行沉积时能够聚拢在第一加热板、第二加热板和物料之间，提高沉积效率，再通过第二导板和第一导板所结合而成的梯形截面，能够持续使得涂层向下聚拢，使其密度更高。
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公开(公告)号：CN117029485A
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202311171284.6
申请日：2023-09-12
申请人： 山东华达新材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种超声波刻蚀的等静压石墨提升强度焙烧炉，具体涉及等静压石墨焙烧技术领域，包括焙烧炉保温外壳，所述焙烧炉保温外壳的内部固定连接有焙烧炉，所述焙烧炉，所述焙烧炉的内部安装有多向活动机构；所述多向活动机构包括安装在焙烧炉内部的融合重力滚球。本发明采用多向活动机构在重力作用下融合重力滚球在支撑轴杆外壁滚动，联动支块带动凹形嵌槽环在环槽盖板内部的环形槽中旋转切换方向，联动环槽轴带动联动套接环旋转切换角度，支撑轴杆带动融合重力滚球在焙烧炉内部多方向无规则挤压滚动，大幅度提高焙烧效率，并且提升超声波刻蚀的等静压石墨提升强度。
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公开(公告)号：CN117285037A
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN202311428964.1
申请日：2023-10-30
申请人： 山东华达新材料有限公司
IPC分类号： C01B32/215 , C01B32/21
摘要： 本发明公开了一种电子级多晶硅用等静压石墨件的纯化工艺，具体涉及等静压石墨件纯化技术领域，包括具体步骤：S1、抗氧化性处理，将等静压石墨件放入加热炉中加热；S2、浸泡处理；S3、清洗处理；S4、纯化材料制备；S5、石墨件涂布，石墨件放置在清洁干燥的工；S6、高温纯化处理。本发明通过炭黑填充聚合物为钛酸酯偶联剂、硅烷偶联剂、铝酸酯偶联剂、炭黑粉混合，形成抗氧化浸泡混合物，能够在整个电子级多晶硅用等静压石墨件外壁形成一层防腐抗氧化层，而且保持电子级多晶硅用等静压石墨件具有优异的导电性能，电子级多晶硅用等静压石墨件耐用性有效提高。
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公开(公告)号：CN118418001A
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202410713403.4
申请日：2024-06-03
申请人： 山东华达新材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种碳化硅生长热场用等静压石墨坏料打磨设备，具体涉及打磨技术领域，主要包括支撑座、支架以及滑框，支架固定在支撑座一侧，滑框焊接在支架顶端，滑框的内壁设有均匀联动机构；均匀联动机构包括转动设置在滑框内壁的传动螺杆，滑框的一侧固定安装有用于驱动传动螺杆旋转的驱动电机。本发明采用均匀联动机构，支架对滑框提供牢牢支撑力，由控制器启动驱动电机，传动螺杆驱动两个套接块在螺纹传动力的作用下远离，套接块带动联动套架右移，另外一个套接块带动另外一个联动套架左移，两个打磨盘分别与两个等静压石墨坯料实现均匀受力打磨，等静压石墨坯料打磨更加均匀，提高打磨质量。
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公开(公告)号：CN118322368A
公开(公告)日：2024-07-12
申请号：CN202410619629.8
申请日：2024-05-17
申请人： 山东华达新材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种硅晶圆生产热场用等静压石墨无尘分割装置，具体涉及等静压石墨加工技术领域，包括置物框和分割组件，且分割组件位于置物框内，置物框的顶部通过合页活动连接有框盖，置物框的内部固定连接有隔板，隔板的底端中心位置处固定连通有立筒，置物框的两侧均开设有多个通风口，且多个通风口均位于隔板的底部，置物框上设有清理组件。本发明通过吹风机工作产生风，风通过固定筒和气管进入出风斗内，最后通过出风斗排出，对分割组件进行散热，风可以通过立筒进入水中，分割产生的粉尘溶入水中，风通过多个通风口排出置物框内，操作简单，无尘分割，同时无需对等静压石墨进行干燥，使用方便。
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