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公开(公告)号：CN113399319B
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202110580342.5
申请日：2021-05-26
申请人： 山东天岳先进科技股份有限公司
摘要： 本申请实施例公开了一种晶体炉可视化清洁方法及设备，方法包括：采集晶体炉内壁在洁净状态下的若干图像以及在非洁净状态下的若干图像，以得到晶体炉内壁图像特征库；基于预设程序，控制晶体炉清洁装置旋转升降组件以及套设在旋转升降组件上的清洁箱进行升降或旋转，以对晶体炉内壁进行清洁；其中，清洁箱顶部和侧面安装有清洁刷；清洁完毕后，采集晶体炉内壁的实时图像；对晶体炉内壁的实时图像进行特征提取，并与晶体炉内壁图像特征库中的若干图像进行特征匹配，以确定晶体炉内壁的洁净状态。解决了现有晶体炉清洁方法无法实现自动清洁且不能自动检测晶体炉是否清洁干净的问题。降低了晶体炉清洁的成本，提高了晶体炉清洁的效率。
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公开(公告)号：CN113385442B
公开(公告)日：2022-12-23
申请号：CN202110578912.7
申请日：2021-05-26
申请人： 山东天岳先进科技股份有限公司
摘要： 本申请实施例公开了一种晶体炉清洁装置及方法，装置包括驱动机构与清洁检测机构；所述驱动机构包括旋转升降组件，以及套设在所述旋转升降组件上的清洁箱；所述清洁箱设有顶部清洁刷与侧面清洁刷，所述旋转升降组件带动所述清洁箱上下移动，以使所述顶部清洁刷对晶体炉内的密封组件进行清洁，以及使所述侧面清洁刷对晶体炉内的工艺管进行清洁；所述清洁检测机构置于所述清洁箱上；所述清洁检测机构用于在所述清洁箱上下移动时，采集所述密封组件与所述工艺管的图像，并将所述图像与预存图像做对比，以对所述晶体炉内的所述密封组件、所述工艺管进行清洁检测。以此提高清洁效率，确保统一的清洁标准，提高晶体生长质量。
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公开(公告)号：CN113399319A
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN202110580342.5
申请日：2021-05-26
申请人： 山东天岳先进科技股份有限公司
摘要： 本申请实施例公开了一种晶体炉可视化清洁方法及装置，方法包括：采集晶体炉内壁在洁净状态下的若干图像以及在非洁净状态下的若干图像，以得到晶体炉内壁图像特征库；基于预设程序，控制晶体炉清洁装置旋转升降组件以及套设在旋转升降组件上的清洁箱进行升降或旋转，以对晶体炉内壁进行清洁；其中，清洁箱顶部和侧面安装有清洁刷；清洁完毕后，采集晶体炉内壁的实时图像；对晶体炉内壁的实时图像进行特征提取，并与晶体炉内壁图像特征库中的若干图像进行特征匹配，以确定晶体炉内壁的洁净状态。解决了现有晶体炉清洁方法无法实现自动清洁且不能自动检测晶体炉是否清洁干净的问题。降低了晶体炉清洁的成本，提高了晶体炉清洁的效率。
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公开(公告)号：CN113385442A
公开(公告)日：2021-09-14
申请号：CN202110578912.7
申请日：2021-05-26
申请人： 山东天岳先进科技股份有限公司
摘要： 本申请实施例公开了一种晶体炉清洁装置及方法，装置包括驱动机构与清洁检测机构；所述驱动机构包括旋转升降组件，以及套设在所述旋转升降组件上的清洁箱；所述清洁箱设有顶部清洁刷与侧面清洁刷，所述旋转升降组件带动所述清洁箱上下移动，以使所述顶部清洁刷对晶体炉内的密封组件进行清洁，以及使所述侧面清洁刷对晶体炉内的工艺管进行清洁；所述清洁检测机构置于所述清洁箱上；所述清洁检测机构用于在所述清洁箱上下移动时，采集所述密封组件与所述工艺管的图像，并将所述图像与预存图像做对比，以对所述晶体炉内的所述密封组件、所述工艺管进行清洁检测。以此提高清洁效率，确保统一的清洁标准，提高晶体生长质量。
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公开(公告)号：CN215800054U
公开(公告)日：2022-02-11
申请号：CN202122371952.2
申请日：2021-09-28
申请人： 山东天岳先进科技股份有限公司
摘要： 本申请公开了一种自动密封的反应炉，属于半导体材料制备技术领域。该反应炉包括炉体和炉体下盖，所述炉体下盖密封盖合所述炉体底部的进料口；升降机构，所述升降机构用于支撑炉体下盖，所述升降机构上升或下降以带动所述炉体下盖上升或下降；密封机构，所述密封机构包括设置在炉体下方的锁紧压轮，所述升降机构上升以带动所述炉体下盖上升至与炉体密封位置，所述锁紧压轮与所述炉体下盖下端面接触，以推动所述炉体下盖和所述炉体密封。该反应炉结构简单，可自动化进行装卸，提高工作效率，可用于大规模自动化生产半导体材料。
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公开(公告)号：CN216864387U
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202122372096.2
申请日：2021-09-28
申请人： 山东天岳先进科技股份有限公司
摘要： 本申请公开了一种反应器定位装料装置及半导体自动化装卸系统，属于半导体材料制备技术领域。该装置包括：装载台，所述装载台用于支撑炉体下盖和反应器，所述反应器设置在所述炉体下盖的上方；定位模板，所述定位模板与所述炉体下盖和反应器的外周卡合，用于将所述炉体下盖和所述反应器共中心轴线设置，以对所述反应器装料。通过定位模板将反应器和炉体下盖的外周卡合，从而使得炉体下盖和反应器共中心轴线设置，提高了炉体下盖与反应器的定位精度，提高后续反应器内原料的受热均匀性，进而提高半导体的生长质量。
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公开(公告)号：CN215587405U
公开(公告)日：2022-01-21
申请号：CN202122116681.6
申请日：2021-09-03
申请人： 山东天岳先进科技股份有限公司
摘要： 本申请公开了一种清洁装置，尤其涉及一种用于半导体生长炉的清洁装置。该清洁装置包括：清洁组件，所述清洁组件包括清洁盘和清洁毛刷，所述清洁毛刷设置于所述清洁盘上，且所述清洁毛刷中至少部分刷毛形成清洁头，所述清洁头中的刷毛中设有第一孔道结构；吸尘组件，所述吸尘组件包括相连的吸尘管道、集尘仓和第一动力装置，所述清洁盘内设置第一通道，所述第一孔道结构的开口形成吸尘口，且所述第一孔道结构通过所述第一通道与所述吸尘管道相连通，所述清洁毛刷用于将待清洁件内壁的灰尘清除，所述第一动力装置用于产生吸力，以使待清洁件内部的灰尘依次经所述第一孔道结构和所述第一通道后进入所述吸尘管道，并被收集至所述集尘仓内。
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