公开(公告)号：CN117203185A

公开(公告)日：2023-12-08

申请号：CN202280031097.5

申请日：2022-03-28

申请人： 巴斯夫欧洲公司

发明人： 袁国良 ,  M·伊沙克 ,  金顺颖 ,  K·王 ,  郑艺洲

IPC分类号： C07C263/18

摘要： 本公开涉及一种二异氰酸酯稳定剂，该二异氰酸酯稳定剂在稳定二异氰酸酯中的用途以及一种包含该稳定剂的二异氰酸酯组合物。该二异氰酸酯稳定剂包含位阻酚、硫醚和亚磷酸酯。本公开目的在于提供一种可以使二异氰酸酯在长期储存和加热条件过程中维持稳定的二异氰酸酯稳定剂。

公开(公告)号：CN102782066B

公开(公告)日：2015-04-15

申请号：CN201180010318.2

申请日：2011-01-19

申请人： 巴斯夫欧洲公司

发明人： Y·李 ,  K·王

IPC分类号： C09G1/02

CPC分类号： H01L21/3212 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463

摘要： 本发明涉及一种化学-机械抛光组合物，其包含：(a)至少一种类型的磨料颗粒；(b)至少两种氧化剂；(c)至少一种pH调节剂；和(d)去离子水；(e)任选包含至少一种抗氧化剂，以及一种将含至少一个铜层、至少一个钌层和至少一个钽层的基材化学-机械平坦化的方法，其包括以下步骤：(1)提供所述化学-机械抛光组合物；(2)使待抛光的基材表面与所述化学-机械抛光组合物和抛光垫接触；和(3)通过相对基材移动抛光垫而将基材表面化学机械抛光。

公开(公告)号：CN102782066A

公开(公告)日：2012-11-14

申请号：CN201180010318.2

申请日：2011-01-19

申请人： 巴斯夫欧洲公司

发明人： Y·李 ,  K·王

IPC分类号： C09G1/02

CPC分类号： H01L21/3212 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463

摘要： 本发明涉及一种化学-机械抛光组合物，其包含：(a)至少一种类型的磨料颗粒；(b)至少两种氧化剂；(c)至少一种pH调节剂；和(d)去离子水；(e)任选包含至少一种抗氧化剂，以及一种将含至少一个铜层、至少一个钌层和至少一个钽层的基材化学-机械平坦化的方法，其包括以下步骤：(1)提供所述化学-机械抛光组合物；(2)使待抛光的基材表面与所述化学-机械抛光组合物和抛光垫接触；和(3)通过相对基材移动抛光垫而将基材表面化学机械抛光。