公开(公告)号：CN103249789A

公开(公告)日：2013-08-14

申请号：CN201180058705.3

申请日：2011-10-04

申请人： 巴斯夫欧洲公司

发明人： V·I·莱曼 ,  F·里蒂格 ,  Y·李 ,  W·L·W·邱

IPC分类号： C09G1/02 ,  H01L21/306

CPC分类号： H01L21/30625 ,  C09G1/02 ,  C09G1/04 ,  G09G1/02 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/3212 ,  H01L21/7684

摘要： 本发明涉及含水抛光组合物，其包含：(A)磨料颗粒和(B)选自水溶性或水分散性表面活性剂的两亲性非离子表面活性剂，所述表面活性剂具有：(b1)选自具有10-18个碳原子的支化烷基的疏水基团；和(b2)选自聚氧化烯基团的亲水基团，所述聚氧化烯基团包含：(b21)氧化乙烯单体单元和(b22)取代氧化烯单体单元，其中取代基选自烷基、环烷基或芳基、烷基-环烷基、烷基-芳基、环烷基-芳基和烷基-环烷基-芳基，所述聚氧化烯基团含有呈无规、交替、梯度和嵌段分布的单体单元(b21)和(b22)；使用所述含水抛光组合物将具有图案化或未图案化低k或超低k电介质层的基材CMP的方法；和所述含水抛光组合物在生产电、机械和光学器件中的用途。

公开(公告)号：CN103249789B

公开(公告)日：2016-01-13

申请号：CN201180058705.3

申请日：2011-10-04

申请人： 巴斯夫欧洲公司

发明人： V·I·莱曼 ,  F·里蒂格 ,  Y·李 ,  W·L·W·邱

IPC分类号： C09G1/02 ,  H01L21/306

CPC分类号： H01L21/30625 ,  C09G1/02 ,  C09G1/04 ,  G09G1/02 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/3212 ,  H01L21/7684

摘要： 本发明涉及含水抛光组合物，其包含：(A)磨料颗粒和(B)选自水溶性或水分散性表面活性剂的两亲性非离子表面活性剂，所述表面活性剂具有：(b1)选自具有10-18个碳原子的支化烷基的疏水基团；和(b2)选自聚氧化烯基团的亲水基团，所述聚氧化烯基团包含：(b21)氧化乙烯单体单元和(b22)取代氧化烯单体单元，其中取代基选自烷基、环烷基或芳基、烷基-环烷基、烷基-芳基、环烷基-芳基和烷基-环烷基-芳基，所述聚氧化烯基团含有呈无规、交替、梯度和嵌段分布的单体单元(b21)和(b22)；使用所述含水抛光组合物将具有图案化或未图案化低k或超低k电介质层的基材CMP的方法；和所述含水抛光组合物在生产电、机械和光学器件中的用途。