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公开(公告)号：CN102640275B
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201080053661.0
申请日：2010-11-25
申请人： 巴斯夫欧洲公司
IPC分类号： H01L21/463 , C09G1/02
CPC分类号： C09G1/02 , C09K3/1463 , H01L21/3212
摘要： 一种通过CMP从衬底去除本体材料层并使暴露表面平面化的方法，包括：(1)提供CMP试剂，其在未添加辅助材料的情况下在化学机械抛光结束时呈现：-与其开始时相同的SER和比其开始时更低的MRR，-比初始SER更低的SER以及与初始MRR相同或基本相同的MRR，或-比其开始时更低的SER和更低的MRR；(2)使所述本体材料层的表面与所述CMP试剂接触；(3)用所述CMP试剂对所述本体材料层进行CMP；(4)继续CMP直至从暴露表面去除所有材料残留物；以及一种CMP试剂及其在电和光学器件制造中的用途。
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公开(公告)号：CN102648258A
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN201080054143.0
申请日：2010-11-25
申请人： 巴斯夫欧洲公司
IPC分类号： C09G1/02 , C09K3/14 , H01L21/321 , H01L21/3105 , H01L21/306
CPC分类号： H01L21/3212 , C09G1/02 , C09K3/1436 , C09K3/1463
摘要： 一种含水CMP试剂(A)，其包含固体粒子(a1)，所述固体粒子(a1)含有：(a11)金属腐蚀抑制剂，和(a12)固体材料，其中所述固体粒子(a1)细分散于水相中；及其在通过化学机械抛光从衬底表面去除本体材料层并使暴露表面平面化直至所有材料残余物均从该暴露表面去除的方法中的用途，其中所述CMP试剂在未添加辅助材料的情况下在化学机械抛光结束时呈现：-与其开始时相同或基本相同的静态SER和比其开始时更低MRR，-比其开始时更低的SER以及与其开始时相同或基本相同的MRR，或者-比其开始时更低的SER和更低的MRR；从而使得该CMP试剂呈现软着垫行为。
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公开(公告)号：CN102640275A
公开(公告)日：2012-08-15
申请号：CN201080053661.0
申请日：2010-11-25
申请人： 巴斯夫欧洲公司
IPC分类号： H01L21/463 , C09G1/02
CPC分类号： C09G1/02 , C09K3/1463 , H01L21/3212
摘要： 一种通过CMP从衬底去除本体材料层并使暴露表面平面化的方法，包括：(1)提供CMP试剂，其在未添加辅助材料的情况下在化学机械抛光结束时呈现：-与其开始时相同的SER和比其开始时更低的MRR，-比初始SER更低的SER以及与初始MRR相同或基本相同的MRR，或-比其开始时更低的SER和更低的MRR；(2)使所述本体材料层的表面与所述CMP试剂接触；(3)用所述CMP试剂对所述本体材料层进行CMP；(4)继续CMP直至从暴露表面去除所有材料残留物；以及一种CMP试剂及其在电和光学器件制造中的用途。
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公开(公告)号：CN102782067B
公开(公告)日：2015-08-05
申请号：CN201180010931.4
申请日：2011-01-19
申请人： 巴斯夫欧洲公司
摘要： 一种含水抛光剂，其包含作为磨料的至少一种细分散于水相中且在其表面处具有多个至少一种能与待抛光表面上的金属和/或金属氧化物相互作用并与所述金属和金属阳离子形成配合物的官能团(a1)的聚合物颗粒(A)，其中所述聚合物颗粒(A)可通过在至少一种包含多个官能团(a1)的低聚物或聚合物存在下乳液聚合或悬浮聚合至少一种包含至少一个可自由基聚合双键的单体而制备；接枝共聚物，其可通过在至少一种低聚或聚合氨基三嗪-多胺缩合物存在下乳液聚合或悬浮聚合至少一种包含至少一个可自由基聚合双键的单体而制备；以及一种使用所述含水抛光剂化学机械抛光图案化和未结构化的金属表面的方法。
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公开(公告)号：CN103249789A
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN201180058705.3
申请日：2011-10-04
申请人： 巴斯夫欧洲公司
IPC分类号： C09G1/02 , H01L21/306
CPC分类号： H01L21/30625 , C09G1/02 , C09G1/04 , G09G1/02 , H01L21/31053 , H01L21/3212 , H01L21/7684
摘要： 本发明涉及含水抛光组合物，其包含：(A)磨料颗粒和(B)选自水溶性或水分散性表面活性剂的两亲性非离子表面活性剂，所述表面活性剂具有：(b1)选自具有10-18个碳原子的支化烷基的疏水基团；和(b2)选自聚氧化烯基团的亲水基团，所述聚氧化烯基团包含：(b21)氧化乙烯单体单元和(b22)取代氧化烯单体单元，其中取代基选自烷基、环烷基或芳基、烷基-环烷基、烷基-芳基、环烷基-芳基和烷基-环烷基-芳基，所述聚氧化烯基团含有呈无规、交替、梯度和嵌段分布的单体单元(b21)和(b22)；使用所述含水抛光组合物将具有图案化或未图案化低k或超低k电介质层的基材CMP的方法；和所述含水抛光组合物在生产电、机械和光学器件中的用途。
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公开(公告)号：CN102782067A
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：CN201180010931.4
申请日：2011-01-19
申请人： 巴斯夫欧洲公司
摘要： 一种含水抛光剂，其包含作为磨料的至少一种细分散于水相中且在其表面处具有多个至少一种能与待抛光表面上的金属和/或金属氧化物相互作用并与所述金属和金属阳离子形成配合物的官能团(a1)的聚合物颗粒(A)，其中所述聚合物颗粒(A)可通过在至少一种包含多个官能团(a1)的低聚物或聚合物存在下乳液聚合或悬浮聚合至少一种包含至少一个可自由基聚合双键的单体而制备；接枝共聚物，其可通过在至少一种低聚或聚合氨基三嗪-多胺缩合物存在下乳液聚合或悬浮聚合至少一种包含至少一个可自由基聚合双键的单体而制备；以及一种使用所述含水抛光剂化学机械抛光图案化和未结构化的金属表面的方法。
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公开(公告)号：CN103917608B
公开(公告)日：2017-11-17
申请号：CN201280054852.8
申请日：2012-11-07
申请人： 巴斯夫欧洲公司
CPC分类号： C09D7/1216 , C08F20/28 , C09D4/06 , C09D7/61 , Y10T428/31906
摘要： 描述了一种可以通过自由基聚合得到的纸张涂布浆液添加剂、其制备及其在纸张涂布组合物中的用途。该添加剂由如下单体形成：(a)选自烯属不饱和C3‑C8羧酸的酸单体，(b)如下通式的缔合性单体：H2C＝CR1‑COO‑(EO)n‑(PO)m‑R2，其中R1为氢或甲基，n至少为2，m为0‑50，EO为氧化乙烯基团，PO为氧化丙烯基团且R2为C8‑C30烷基或C8‑C30烷芳基，以及(c)不同于a)和b)的非离子性可共聚单体，其中所述添加剂具有低于200000的重均分子量，并且其中叔十二烷基硫醇用作链转移剂。
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公开(公告)号：CN103249789B
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201180058705.3
申请日：2011-10-04
申请人： 巴斯夫欧洲公司
IPC分类号： C09G1/02 , H01L21/306
CPC分类号： H01L21/30625 , C09G1/02 , C09G1/04 , G09G1/02 , H01L21/31053 , H01L21/3212 , H01L21/7684
摘要： 本发明涉及含水抛光组合物，其包含：(A)磨料颗粒和(B)选自水溶性或水分散性表面活性剂的两亲性非离子表面活性剂，所述表面活性剂具有：(b1)选自具有10-18个碳原子的支化烷基的疏水基团；和(b2)选自聚氧化烯基团的亲水基团，所述聚氧化烯基团包含：(b21)氧化乙烯单体单元和(b22)取代氧化烯单体单元，其中取代基选自烷基、环烷基或芳基、烷基-环烷基、烷基-芳基、环烷基-芳基和烷基-环烷基-芳基，所述聚氧化烯基团含有呈无规、交替、梯度和嵌段分布的单体单元(b21)和(b22)；使用所述含水抛光组合物将具有图案化或未图案化低k或超低k电介质层的基材CMP的方法；和所述含水抛光组合物在生产电、机械和光学器件中的用途。
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