公开(公告)号：CN100375250C

公开(公告)日：2008-03-12

申请号：CN03814610.X

申请日：2003-05-27

Applicant: 巴斯福股份公司

Inventor： R·梅利斯 ,  M·伯尔纳 ,  L·阿尔诺德 ,  A·巴尔科 ,  R·莱茵

IPC: H01L21/3213 ,  C09D9/00 ,  C09G1/04 ,  G03F7/42

CPC classification number: H01L21/02071 ,  C11D3/3947 ,  C11D7/08 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/423 ,  Y10S438/963

Abstract: 本发明涉及在半导体元件生产过程中用以从金属表面，特别是从铝或含铝的表面清除所谓“侧壁残留物”的组合物。