公开(公告)号：CN1203379C

公开(公告)日：2005-05-25

申请号：CN00818696.0

申请日：2000-11-07

申请人： 布克哈姆技术公共有限公司

发明人： R·宾兰 ,  D·G·哈特

IPC分类号： G03F9/00

CPC分类号： G03F9/7003 ,  G01N23/20 ,  G03F9/7049

摘要： 本发明提供了一种装置(10，300)，它组合了用来将图形从掩模(35)印制到衬底例如晶片(190)上的光刻装置(20)以及用来确定衬底结晶学取向的采用X射线衍射技术的衬底角测量装置(100，310)。此装置(10，310)被校准，使掩模(35)相对于测量装置(100，310)正确地角取向。当新的衬底(190)被装载到装置(10，300)中以便使图形从掩模(35)印制到其上时，装置(10，300)将衬底(190)相对于测量装置(100，310)角对准，从而也将衬底(190)角对准于掩模(35)。装置(10，300)不将衬底上的任何平坦部分用于角对准的目的；结果，当使衬底(190)的晶面对准于掩模(35)上的特征时，装置(10，300)能够提供高精度，此精度接近1弧分或更好。

公开(公告)号：CN1433533A

公开(公告)日：2003-07-30

申请号：CN00818696.0

申请日：2000-11-07

申请人： 布克哈姆技术公共有限公司

发明人： R·宾兰 ,  D·G·哈特

IPC分类号： G03F9/00

CPC分类号： G03F9/7003 ,  G01N23/20 ,  G03F9/7049

摘要： 本发明提供了一种装置(10，300)，它组合了用来将图形从掩模(35)印制到衬底例如晶片(190)上的光刻装置(20)以及用来确定衬底结晶学取向的采用X射线衍射技术的衬底角测量装置(100，310)。此装置(10，310)被校准，使掩模(35)相对于测量装置(100，310)正确地角取向。当新的衬底(190)被装载到装置(10，300)中以便使图形从掩模(35)印制到其上时，装置(10，300)将衬底(190)相对于测量装置(100，310)角对准，从而也将衬底(190)角对准于掩模(35)。装置(10，300)不将衬底上的任何平坦部分用于角对准的目的；结果，当使衬底(190)的晶面对准于掩模(35)上的特征时，装置(10，300)能够提供高精度，此精度接近1弧分或更好。