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公开(公告)号：CN102804347B
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201080026458.4
申请日：2010-03-19
申请人： 布鲁尔科技公司
IPC分类号： H01L21/312
CPC分类号： B81C1/00801 , B81C2201/053 , C08G61/08 , C08G2261/3324 , C08G2261/418 , G03F7/033 , G03F7/094 , H01L21/0274 , H01L21/3081 , Y10T428/31645 , Y10T428/31667 , Y10T428/31692 , Y10T428/31855 , Y10T428/31909
摘要： 本发明提供了新组合物以及在半导体和MEMS设备生产过程中使用这些组合物作为保护层的方法。所述组合物包含分散或溶解在溶剂体系中的环烯烃共聚物，可用于形成在酸蚀刻或其它加工和操作过程中保护基片的层。保护层可以是光敏或非光敏的，可与保护层下方的底漆层一起使用，或者不存在底漆层。优选的底漆层包含在溶剂体系中的碱性聚合物。
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公开(公告)号：CN102804347A
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN201080026458.4
申请日：2010-03-19
申请人： 布鲁尔科技公司
IPC分类号： H01L21/312
CPC分类号： B81C1/00801 , B81C2201/053 , C08G61/08 , C08G2261/3324 , C08G2261/418 , G03F7/033 , G03F7/094 , H01L21/0274 , H01L21/3081 , Y10T428/31645 , Y10T428/31667 , Y10T428/31692 , Y10T428/31855 , Y10T428/31909
摘要： 本发明提供了新组合物以及在半导体和MEMS设备生产过程中使用这些组合物作为保护层的方法。所述组合物包含分散或溶解在溶剂体系中的环烯烃共聚物，可用于形成在酸蚀刻或其它加工和操作过程中保护基片的层。保护层可以是光敏或非光敏的，可与保护层下方的底漆层一起使用，或者不存在底漆层。优选的底漆层包含在溶剂体系中的碱性聚合物。
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公开(公告)号：CN100551548C
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200580038021.1
申请日：2005-11-07
申请人： 布鲁尔科技公司
摘要： 提供了新型挡板以及使用这些挡板的方法。该挡板包括具有边壁的板身，该边壁被构造成将成分的流动导向基板(例如，硅晶片)边缘。边壁包括垂直表面(38)、与垂直表面相耦合的弯曲侧壁(42)以及与弯曲侧壁相耦合的唇边(40)。一种优选的挡板是环形的并由合成树脂成分构成。更为优选地，该挡板不由金属构成。本发明的方法包括在旋涂过程期间靠近基板定位上述挡板，由此边壁就引起该成分覆盖基板边缘并优选地覆盖该基板背侧的一部分。
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公开(公告)号：CN101056714A
公开(公告)日：2007-10-17
申请号：CN200580038021.1
申请日：2005-11-07
申请人： 布鲁尔科技公司
摘要： 提供了新型挡板以及使用这些挡板的方法。该挡板包括具有边壁的板身，该边壁被构造成将成分的流动导向基板(例如，硅晶片)边缘。边壁包括垂直表面(38)、与垂直表面相耦合的弯曲侧壁(42)以及与弯曲侧壁相耦合的唇边(40)。一种优选的挡板是环形的并由合成树脂成分构成。更为优选地，该挡板不由金属构成。本发明的方法包括在旋涂过程期间靠近基板定位上述挡板，由此边壁就引起该成分覆盖基板边缘并优选地覆盖该基板背侧的一部分。
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