真空腔体门安全防护装置

    公开(公告)号:CN110607967B

    公开(公告)日:2024-05-07

    申请号:CN201910842650.3

    申请日:2019-09-06

    发明人: 吴建东

    IPC分类号: E05F7/06

    摘要: 本发明涉及一种真空腔体门安全防护装置,安装于真空腔体门的把手一侧底角端,包括固定在真空腔体门门体上的主气缸,主气缸活塞杆连接有支撑轮,所述支撑轮在真空腔体门开闭过程中由主气缸推动向上支撑真空腔体门,支撑轮上开设有轴向插销孔,支撑轮侧面设有在真空腔体门开闭到位后插入轴向插销孔内锁死支撑轮的滚珠插销。本发明在真空腔体门开关门到位后,采用主气缸推动支撑轮支撑住真空腔体门,从而有效地防止了由于重力作用而导致真空腔体门向一侧倾覆而发生严重安全危险。同时也防止了真空腔体在维护过程中,由于开门造成真空腔体门重心前移产生腔体倾覆或翻转而造成安全事故的发生。

    大口径光学元件超精密加工抛光机床

    公开(公告)号:CN107932253B

    公开(公告)日:2024-04-09

    申请号:CN201711421093.5

    申请日:2017-12-25

    发明人: 吴建东

    摘要: 本发明涉及光学元件抛光技术领域,尤其是一种大口径光学元件超精密加工抛光机床,包括底座、设置在底座上的立柱及位于立柱顶端的横梁,主轴电机的输出端上传动连接有花键套,花键套内滑动设置有与其相配合的花键轴,抛光模的上表面固定有与其相匹配的磁性金属板,磁性金属板与花键轴的底端端部固定连接;平台上固定有工作台及用于吸附抛光模上磁性金属板的电磁吸盘,本发明利用电磁吸盘产生的磁力吸附抛光模上的磁性金属板,从而实现抛光模对光学元件的待抛光表面产生一定的压力,且抛光模对光学元件待抛光表面的压力较为均匀,有利于提高对光学元件的抛光精度。

    真空腔体门安全防护装置

    公开(公告)号:CN110607967A

    公开(公告)日:2019-12-24

    申请号:CN201910842650.3

    申请日:2019-09-06

    发明人: 吴建东

    IPC分类号: E05F7/06

    摘要: 本发明涉及一种真空腔体门安全防护装置,安装于真空腔体门的把手一侧底角端,包括固定在真空腔体门门体上的主气缸,主气缸活塞杆连接有支撑轮,所述支撑轮在真空腔体门开闭过程中由主气缸推动向上支撑真空腔体门,支撑轮上开设有轴向插销孔,支撑轮侧面设有在真空腔体门开闭到位后插入轴向插销孔内锁死支撑轮的滚珠插销。本发明在真空腔体门开关门到位后,采用主气缸推动支撑轮支撑住真空腔体门,从而有效地防止了由于重力作用而导致真空腔体门向一侧倾覆而发生严重安全危险。同时也防止了真空腔体在维护过程中,由于开门造成真空腔体门重心前移产生腔体倾覆或翻转而造成安全事故的发生。

    一种用于光学元件精密抛光的可自转可公转的抛光头

    公开(公告)号:CN111055187A

    公开(公告)日:2020-04-24

    申请号:CN201911398447.8

    申请日:2019-12-30

    发明人: 吴建东

    摘要: 本发明提供了一种用于光学元件精密抛光的可自转可公转的抛光头,包括固定板和公转电机,公转电机下端吊设有偏心调节机构,偏心调节机构下方固定有有公转电机的电机轴带动转动的公转曲柄,所述公转曲柄上固定有自转电机和由自转电机驱动自转的抛光轴,所述抛光轴下端连接有抛光头,固定板上则具有滑轨,滑轨上滑动连接有滑块,公转曲柄与滑块铰接。本发明结构设计合理,抛光头偏心进行公转,抛光头抛光覆盖面积大,去除效率高;在偏心半径范围内,去除速度相同,去除的材料均匀;偏心距离可调整,适合用于不同的抛光工艺;采用双电机驱动,自转、公转速度独立可控。

    大口径光学元件超精密加工抛光机床

    公开(公告)号:CN107932253A

    公开(公告)日:2018-04-20

    申请号:CN201711421093.5

    申请日:2017-12-25

    发明人: 吴建东

    摘要: 本发明涉及光学元件抛光技术领域,尤其是一种大口径光学元件超精密加工抛光机床,包括底座、设置在底座上的立柱及位于立柱顶端的横梁,主轴电机的输出端上传动连接有花键套,花键套内滑动设置有与其相配合的花键轴,抛光模的上表面固定有与其相匹配的磁性金属板,磁性金属板与花键轴的底端端部固定连接;平台上固定有工作台及用于吸附抛光模上磁性金属板的电磁吸盘,本发明利用电磁吸盘产生的磁力吸附抛光模上的磁性金属板,从而实现抛光模对光学元件的待抛光表面产生一定的压力,且抛光模对光学元件待抛光表面的压力较为均匀,有利于提高对光学元件的抛光精度。

    手机摄像头支架本体加工工装

    公开(公告)号:CN214444608U

    公开(公告)日:2021-10-22

    申请号:CN202023341386.2

    申请日:2020-12-31

    发明人: 吴建东

    IPC分类号: B23Q3/00

    摘要: 本实用新型涉及一种手机摄像头支架本体加工工装,包括安装板和限位卡板,安装板上表面固定安装定位销,定位销用于对片状主体进行初定位;限位卡板下表面开设有卡设开口,卡设开口的中心开设有与定位销配合的定位孔,定位孔的上方固定安装有上限位销,下方固定安装有下限位销,片状主体卡设在卡设开口内,定位销插设在第一摄像头孔内,上限位销插设在闪光灯孔内,下限位销插设在音响孔内,片状主体被完全限制在卡设开口内,在加工第二摄像头孔和第三摄像头孔时,刀具可沿第一加工孔和第二加工孔加工,第一加工孔和第二加工孔为刀具提供了导向作用;本实用新型结构简单,操作方便,可满足手机摄像头支架本体的固定和加工需求。

    一种大口径平面离子束抛光机的上料机构

    公开(公告)号:CN213498086U

    公开(公告)日:2021-06-22

    申请号:CN202022254486.5

    申请日:2020-10-12

    发明人: 吴建东

    IPC分类号: B24B1/00 B24B13/00 B24B13/005

    摘要: 本实用新型涉及抛光技术领域,且公开了一种大口径平面离子束抛光机的上料机构,包括上料板和U形板,所述上料板固定设置于U形板的上表,所述U形板的内部横向设置有双向丝杆,所述双向丝杆的两端杆壁分别通过第一轴承与U形板的侧壁转动连接,所述双向丝杆的两端杆壁分别螺纹连接有滑块,两个所述滑块的上表面分别固定设有连接杆,两个所述上料板的内部对称开设有两个条形口,两个所述连接杆分别通过对应的条形口并向上延伸且分别与对应条形口滑动连接,所述上料板的上表面固定设有垫板,所述垫板的上表面设置有工件。本实用新型在实现了对工件的上表面的全面抛光,同时有效的避免了工件的表面受到磨损。

    一种大口径平面离子束抛光机的二维调整机构

    公开(公告)号:CN213225375U

    公开(公告)日:2021-05-18

    申请号:CN202022237051.X

    申请日:2020-10-10

    发明人: 吴建东

    IPC分类号: B24B1/00 B24B13/00 F16H57/04

    摘要: 本实用新型涉及离子束抛光机技术领域,且公开了一种大口径平面离子束抛光机的二维调整机构,包括底板,底板的上表面边缘处固定连接有两个支撑板,支撑板的侧壁开设有圆孔,且圆孔的孔壁通过滚动轴承转动连接有第一螺纹杆,第一螺纹杆的杆壁螺纹连接有第一螺纹筒,第一螺纹筒的外壁固定连接有U形板,U形板的两侧外壁开设有圆孔,且圆孔的孔壁通过滚动轴承转动连接有第二螺纹杆,第二螺纹杆的杆壁螺纹连接有第二螺纹筒。本实用新型能够有效提高大口径平面离子束抛光机二维调整机构具有润滑油自动涂抹功能,提高了二维调整机构涂抹润滑油维护的便捷性和效率,以及降低了工作人员的劳动强度。

    一种用于光学元件抛光的压力精密控制装置

    公开(公告)号:CN211681356U

    公开(公告)日:2020-10-16

    申请号:CN201922441215.8

    申请日:2019-12-30

    发明人: 吴建东

    摘要: 本实用新型提供了一种用于光学元件抛光的压力精密控制装置,包括外壳体、内缸体、柱塞套和柱塞;外壳体固定在机身上,内缸体通过轴承转动连接在外壳体内;柱塞套则过盈配合固定在内缸体内,且柱塞套下端伸出内缸体下端并贯穿机身,柱塞套顶部密封连接有将柱塞套顶部密封的内缸盖,柱塞套内具有空腔,且该空腔气路连接有供气管路,柱塞配合滑动设置在柱塞套内,且柱塞下端伸出柱塞套底部,柱塞下端固定有抛光头。本实用新型结构设计合理简单,在缸体中设计柱塞套,在不实用密封圈密封、消除密封圈摩擦力对抛光压力影响的同时,有效简化柱塞副结构,达到了降低制造成本和缩短制造周期的效果。

    小磨头数控抛光机床
    10.
    实用新型

    公开(公告)号:CN206967257U

    公开(公告)日:2018-02-06

    申请号:CN201720700984.3

    申请日:2017-06-15

    发明人: 吴建东

    IPC分类号: B24B29/02 B24B41/00

    摘要: 本实用新型提供一种小磨头数控抛光机床,包括底座以及设于所述底座上的工作平台和支架,所述支架上设有用于驱动磨头工作的驱动轴,所述磨头与所述驱动轴输出端固定连接,所述磨头包括依次连接的磨头部和柄部,所述柄部与所述驱动轴输出端固定连接,所述磨头部远离所述柄部的一端沿周向均匀设有至少三条凸条,所述凸条自所述磨头部轴心延伸至所述磨头部侧壁上,所述磨头部侧壁和所述凸条端部均密布有用于抛光的凸起。本实用新型提供的一种小磨头数控抛光机床,采用磨头部端部设置凸条对盲孔进行打磨,可以防止抛光过程中打磨下的残屑影响抛光的质量,残屑在磨头旋转产生的离心力作用下远离工作面,保证了盲孔抛光质量。