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公开(公告)号:CN117299181A
公开(公告)日:2023-12-29
申请号:CN202311260075.9
申请日:2023-09-27
Applicant: 常州大学
IPC: B01J27/24 , B01J35/00 , C02F1/30 , C02F101/38
Abstract: 本发明属于光催化纳米材料制备领域,具体涉及一种碱金属掺杂氮空位调控g‑C3N4负载Bi2Sn2O7复合光催化剂的制备方法,包括g‑C3N4的制备、Na和K共掺杂的g‑C3N4的制备、Bi2Sn2O7的制备和Bi2Sn2O7/NKCN复合光催化剂的制备。与Bi2Sn2O7和碱金属掺杂氮空位调控g‑C3N4相比,所制备的Bi2Sn2O7/g‑C3N4复合光催化剂在模拟阳光下的光催化降解四环素效率显著提高。本发明的制备方法简单,便于操作,且制备条件较好控制,所制备的Bi2Sn2O7/g‑C3N4复合光催化剂有较好的光催化活性和稳定性,具有一定应用前景。
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公开(公告)号:CN116459850B
公开(公告)日:2024-06-25
申请号:CN202310352049.2
申请日:2023-04-04
Applicant: 常州大学
IPC: B01J27/185 , C02F1/30 , B01J27/24 , B01J37/08 , B01J37/03 , B01J35/39 , B01J35/60 , C02F101/34 , C02F101/38
Abstract: 本发明属于光催化纳米材料制备和降解领域,具体涉及一种用于降解四环素的NiCoP/g‑C3N4复合光催化剂的制备方法。本发明采用简单的超声浸渍法将NiCoP(NCP)纳米颗粒耦合在不规则孔状g‑C3N4(CN)表面,形成NiCoP/g‑C3N4复合光催化剂用于降解四环素(TC)中。与NiCoP和g‑C3N4相比,NCP/CN在模拟阳光下的光催化降解TC效率显著提高。本工作为探索过渡金属磷化物(TMPs)和石墨相氮化碳(g‑C3N4)在光催化降解四环素中的应用提供了新的途径。
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公开(公告)号:CN116459850A
公开(公告)日:2023-07-21
申请号:CN202310352049.2
申请日:2023-04-04
Applicant: 常州大学
IPC: B01J27/185 , C02F1/30 , B01J27/24 , B01J37/08 , B01J37/03 , B01J35/10 , B01J35/00 , C02F101/34 , C02F101/38
Abstract: 本发明属于光催化纳米材料制备和降解领域,具体涉及一种用于降解四环素的NiCoP/g‑C3N4复合光催化剂的制备方法。本发明采用简单的超声浸渍法将NiCoP(NCP)纳米颗粒耦合在不规则孔状g‑C3N4(CN)表面,形成NiCoP/g‑C3N4复合光催化剂用于降解四环素(TC)中。与NiCoP和g‑C3N4相比,NCP/CN在模拟阳光下的光催化降解TC效率显著提高。本工作为探索过渡金属磷化物(TMPs)和石墨相氮化碳(g‑C3N4)在光催化降解四环素中的应用提供了新的途径。
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