一种基质培与水培一体的栽培装置

    公开(公告)号:CN207978601U

    公开(公告)日:2018-10-19

    申请号:CN201721820642.1

    申请日:2017-12-21

    IPC分类号: A01G31/02

    CPC分类号: Y02P60/216

    摘要: 本实用新型公开了一种基质培与水培一体的栽培装置,适用于盆栽(木本)花卉的基质培和水培一体化栽培,包括环状的围壁和设置在围壁内的底座,底座包括四个环形阵列布置的支撑组件,每个支撑组件从底座的边缘向中间延伸,每个支撑组件至少包括由下至上设置的小径支撑台和大径支撑台,小径支撑台内边缘距离底座中心的距离小于大径支撑台边缘距离底座中心的距离,支撑组件高于底座底面从而形成存水腔。本实用新型中,小直径基质培花盆可以放置在小径支撑台表面,而大直径基质培花盆放置在大径支撑台表面;放置之后,存水腔通过装入培养液,根系从基质培花盆底部的孔中伸出后到达培养液进行吸收;达到了同一装置可以进行基质/水培一体化的栽培效果。