公开(公告)号：CN118621438A

公开(公告)日：2024-09-10

申请号：CN202311397714.6

申请日：2023-10-26

申请人： 广州粤升半导体设备有限公司

发明人： 林逸 ,  陈佳枚 ,  杨军伟 ,  陈蛟

IPC分类号： C30B25/14

摘要： 本发明实施例提供了一种输气装置及外延设备，其中，输气装置包括腔室主体、分气座、整流板和进气管道。腔室主体具有进气口和出气口，出气口用以与反应室连接，腔室主体内部形成有连接进气口和出气口的输气腔；分气座设置在腔室主体的进气口处，并覆盖进气口，分气座与腔室主体固定连接；分气座上设有导气孔；整流板固定设置在腔室主体和分气座之间，并覆盖进气口；整流板和分气座之间形成有匀气腔；整流板上设有多个连通匀气腔和输气腔的整流孔；整流孔为渐扩形孔；渐扩形孔朝向腔室主体的开口，大于其远离腔室主体的开口；进气管道的一端与导气孔固定连接，另一端与气源连接。本申请实施例的输气装置，可在反应室中获得稳定的流场。

公开(公告)号：CN221850265U

公开(公告)日：2024-10-18

申请号：CN202323235183.9

申请日：2023-11-28

申请人： 广州粤升半导体设备有限公司

发明人： 严泽昌 ,  曾庆森 ,  陈佳枚 ,  林逸 ,  陈蛟

IPC分类号： B25J21/02 ,  H01L21/67 ,  C30B35/00 ,  C30B29/36

摘要： 本实用新型公开了一种外延炉晶圆材料的取放隔离结构，其包括进样腔底座、进样腔上盖和隔离箱，所述进样腔底座设置在所述隔离箱内，所述进样腔上盖盖设在所述进样腔底座上。本实用新型的结构设计合理，通过隔离箱将进样腔底座和进样腔上盖与外界隔离，操作人员将手伸入操作手套便能完成衬底或外延片的取放流程，整体取放流程均是在隔离箱内完成的，有效解决碳化硅外延炉在放片和取片时容易被外界污染物影响的问题，进而保证成品质量。而且在操作前，还可以通过排气孔进行对隔离箱进行抽真空，确保箱内洁净，然后再通过进气口送入清洁惰性气体使得箱内和腔内的气压平衡，以方便操作。另外整体结构简单，可靠性高，成本较低，利于广泛推广应用。

公开(公告)号：CN221626440U

公开(公告)日：2024-08-30

申请号：CN202323235225.9

申请日：2023-11-28

申请人： 广州粤升半导体设备有限公司

发明人： 陈佳枚 ,  曾庆森 ,  林逸 ,  陈蛟

IPC分类号： C30B25/12 ,  C30B29/36 ,  C23C16/458

摘要： 本实用新型公开了一种碳化硅外延炉晶圆托盘，其包括基座、托盘和圆环。在圆环上设有承托部，通过承托部对晶圆进行承托，使得晶圆不会与托盘相接触，进而减少晶圆受托盘的热量影响，提升加热的均匀性，同时也减少了晶圆底面的磨损；圆环通过定位凸起和定位卡槽相配合盖设在托盘上，能减少相对位移和晃动，稳定性好，托盘通过限位凸起与限位槽相配合定位在基座上，配合效果好，能保持托盘与基座的转速一致，并减少晃动导致的碰撞，延长使用寿命；基座和托盘的中部位置具有一定间隙，能够减少基座中部传到托盘中部的热量，进而降低晶圆中部的温度，让晶圆的径向温场更均匀，提高了外延片径向均匀性，提升产品质量。