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公开(公告)号:CN114223050A
公开(公告)日:2022-03-22
申请号:CN202080055591.6
申请日:2020-06-02
申请人: 应用材料公司
IPC分类号: H01L21/027 , H01L21/033 , G03F7/115
摘要: 本公开内容的多个实施方式一般涉及用作极紫外(EUV)平板印刷术中的掩模的多层堆叠物和用于形成多层堆叠物的方法。在一个实施方式中,方法包括以下步骤:在膜堆叠物之上形成碳层,通过物理气相沉积(PVD)工艺在碳层上形成富金属氧化物层,在富金属氧化物层上形成金属氧化物光刻胶层,和图案化金属氧化物光刻胶层。金属氧化物光刻胶层不同于富金属氧化物层,且通过与PVD工艺不同的工艺形成金属氧化物光刻胶层。通过PVD工艺形成的富金属氧化物层改善了金属氧化物光刻胶层的黏附力,并在EUV平板印刷期间增加次级电子,从而导致EUV剂量能量减少。