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公开(公告)号：CN119173817A
公开(公告)日：2024-12-20
申请号：CN202380037739.7
申请日：2023-04-06
Applicant: 应用材料公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 提供了一种在基板上形成图案化特征的方法。该方法包括：将第一掩模定位在基板的第一部分之上；引导辐射穿过基板的第一部分处的第一掩模的图案化区域以在基板上形成第一图案化区域；将第二掩模放置在基板的第二部分之上，第二掩模包括第一图案化区域和第二图案化区域，第一图案化区域通过未图案化区域与第二图案化区域间隔开；引导辐射穿过基板的第二部分的第一部处的第二掩模的该第一图案化区域以在基板上形成第二图案化区域；引导辐射通过在基板的第二部分的第二部处的第二掩模的第二图案化区域以形成第三图案化区域。
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