公开(公告)号：CN207259586U

公开(公告)日：2018-04-20

申请号：CN201490001576.3

申请日：2014-09-30

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 安德烈亚斯·科罗拜尔 ,  法比奥·贝亚雷斯 ,  刘健 ,  马库斯·哈尼卡 ,  安德烈亚斯·勒普

IPC: C23C14/35 ,  H01J37/34

CPC classification number: C23C14/352 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3417 ,  H01J37/3444 ,  H01J37/345 ,  H01J37/3464

Abstract: 本实用新型提供了一种用于沉积材料的设备。所述设备包括：阴极阵列，其中所述阴极阵列中的两个相邻阴极仅一个被构造成被操作以具有一或多个时间间隔，其中所述相邻阴极的仅一个阴极在一或多个时间间隔期间溅射在相同基板上。