公开(公告)号：CN109153254B

公开(公告)日：2021-06-08

申请号：CN201680085819.X

申请日：2016-05-18

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 安德里亚斯·索尔 ,  巩特尔·格伯 ,  斯蒂芬·海因 ,  雷纳·德穆斯

IPC: B41F31/02 ,  B41F33/00 ,  B05C1/08

Abstract: 提供一种用于在真空中连续处理柔性基板的设备(100)。所述设备包括处理辊(110)；具有在处理辊(110)的轴方向中延伸的刮刀(121)的刮刀组件(120)；和经配置而用于使刮刀组件(120)朝向处理辊(110)的表面(111)移动的力传递组件(130)。力传递组件(130)包括用于施加力在刮刀组件(120)上的压力单元(131)和用于施加反力在刮刀组件(120)上的反压力单元(132)。

公开(公告)号：CN109153254A

公开(公告)日：2019-01-04

申请号：CN201680085819.X

申请日：2016-05-18

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 安德里亚斯·索尔 ,  巩特尔·格伯 ,  斯蒂芬·海因 ,  雷纳·德穆斯

IPC: B41F31/02 ,  B41F33/00 ,  B05C1/08

Abstract: 提供一种用于在真空中连续处理柔性基板的设备(100)。所述设备包括处理辊(110)；具有在处理辊(110)的轴方向中延伸的刮刀(121)的刮刀组件(120)；和经配置而用于使刮刀组件(120)朝向处理辊(110)的表面(111)移动的力传递组件(130)。力传递组件(130)包括用于施加力在刮刀组件(120)上的压力单元(131)和用于施加反力在刮刀组件(120)上的反压力单元(132)。

公开(公告)号：CN108350571A

公开(公告)日：2018-07-31

申请号：CN201580084295.8

申请日：2015-11-20

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 斯蒂芬·海因 ,  巩特尔·格伯 ,  安德里亚斯·索尔

IPC: C23C14/56 ,  C23C16/54

CPC classification number: C23C14/562 ,  C23C16/545

Abstract: 本公开内容提供了一种用于在真空处理腔室中支撑柔性基板(10)的设备(100)。设备(100)包括：涂布滚筒，所述涂布滚筒可围绕旋转轴线(105)旋转，其中涂布滚筒具有支撑表面(110)，所述支撑表面(110)经构造以用于支撑柔性基板(10)，其中支撑表面(110)是关于旋转轴线(105)对称的，并且其中在垂直于旋转轴线(105)的方向上在旋转轴线(105)与支撑表面(110)的中心部分(112)之间的第一距离(120)小于在旋转轴线(105)与支撑表面(110)的周边(114、116)之间的第二距离(122)。