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公开(公告)号：CN112204164B
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN201880093518.0
申请日：2018-05-29
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 斯蒂芬·班格特 , 栗田真一 , 于尔根·亨里奇 , 安德里亚斯·索尔
IPC: C23C14/04 , C23C14/56 , H01L21/677
Abstract: 描述一种在真空系统中处理掩模的方法。所述方法包括(a)在真空系统中沿着传送路径以非水平定向(V)传送运载第一掩模(11)的掩模载体(10)；(b)将运载第一掩模(11)的掩模载体(10)的定向从非水平定向(V)改变为基本上水平的定向(H)；和(c)从在真空系统中以基本上水平定向(H)布置的掩模载体(10)卸载第一掩模(11)。根据另外的方面，描述一种真空系统，包括掩模处理模块，所述掩模处理模块用于处理掩模。(图1C)。
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公开(公告)号：CN112771198A
公开(公告)日：2021-05-07
申请号：CN201880098048.7
申请日：2018-10-22
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯蒂芬·班格特 , 于尔根·亨里奇 , 安德里亚斯·索尔 , 马蒂亚斯·赫曼尼斯 , 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧
Abstract: 描述了用于在真空腔室中的基板上沉积材料的材料沉积设备。所述材料沉积设备包括：掩模台，所述掩模台被配置为支撑具有掩模框架和掩模的掩模组件；基板传输轨道，所述基板传输轨道的至少一部分提供于真空腔室中，所述基板传输轨道被配置为支撑基板载体；保持装置，所述保持装置耦接至所述掩模台且被配置为用于将所述掩模组件沿基本上垂直的定向转移至所述掩模台上；和对准组件，所述对准组件具有两个或更多个对准致动器，所述对准组件耦接至所述掩模台且被配置为耦接至所述基板载体以使所述基板载体和所述掩模组件相对于彼此移动。
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公开(公告)号：CN108474112B
公开(公告)日：2020-06-19
申请号：CN201580085470.5
申请日：2015-12-21
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 描述一种用于处理基板上的薄膜的设备。所述设备包括：真空腔室，所述真空腔室包括外壳、后壁和可移除闭合板；处理滚筒，所述处理滚筒在真空腔室内布置在后壁与可移除闭合板之间，所述处理滚筒至少部分地被处理区域包围；第一工艺分隔壁部分，所述第一工艺分隔壁部分附接到可移除闭合板；以及第二工艺分隔壁部分，所述第二工艺分隔壁部分附接到外壳或后壁；其中在可移除闭合板的闭合位置中，第一工艺分隔壁部分和第二工艺分隔壁部分共同提供工艺分隔壁，所述工艺分隔壁将处理区域分成相邻的处理区段。
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公开(公告)号：CN108474112A
公开(公告)日：2018-08-31
申请号：CN201580085470.5
申请日：2015-12-21
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 描述一种用于处理基板上的薄膜的设备。所述设备包括：真空腔室，所述真空腔室包括外壳、后壁和可移除闭合板；处理滚筒，所述处理滚筒在真空腔室内布置在后壁与可移除闭合板之间，所述处理滚筒至少部分地被处理区域包围；第一工艺分隔壁部分，所述第一工艺分隔壁部分附接到可移除闭合板；以及第二工艺分隔壁部分，所述第二工艺分隔壁部分附接到外壳或后壁；其中在可移除闭合板的闭合位置中，第一工艺分隔壁部分和第二工艺分隔壁部分共同提供工艺分隔壁，所述工艺分隔壁将处理区域分成相邻的处理区段。
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公开(公告)号：CN110073481A
公开(公告)日：2019-07-30
申请号：CN201780051374.8
申请日：2017-11-23
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 安德里亚斯·索尔 , 迈克尔·雷纳·舒尔特海斯 , 沃尔夫冈·布什贝克 , 安德里亚斯·勒普 , 马蒂亚斯·赫曼尼斯 , 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧
IPC: H01L21/677
Abstract: 本公开内容提供了根据独立权利要求的一种用于在真空腔室中支撑基板的基板载体、一种掩模夹持设备、一种真空处理系统和一种用于操作电永磁体元件的方法。根据本公开内容的一个方面，提供了一种用于在真空腔室中支撑基板的基板载体。所述基板载体包括电永磁体元件，其中所述电永磁体元件被配置为用于向掩模施加磁保持力。根据本公开内容的另一方面，提供了一种真空处理系统。所述真空处理系统包括真空处理腔室，所述真空处理腔室具有根据本公开内容的其它方面的至少一个基板载体或掩模夹持设备。根据本公开内容的另一方面，提供了一种用于在包括电永磁体元件的系统中操作电永磁体元件的方法。所述方法包括：在由所述基板载体支撑的基板的表面上提供掩模载体；通过施加电磁体的电流将所述电永磁体元件从非磁化状态切换到磁化状态；以及移除所述电流。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108350571A
公开(公告)日：2018-07-31
申请号：CN201580084295.8
申请日：2015-11-20
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: C23C14/562 , C23C16/545
Abstract: 本公开内容提供了一种用于在真空处理腔室中支撑柔性基板(10)的设备(100)。设备(100)包括：涂布滚筒，所述涂布滚筒可围绕旋转轴线(105)旋转，其中涂布滚筒具有支撑表面(110)，所述支撑表面(110)经构造以用于支撑柔性基板(10)，其中支撑表面(110)是关于旋转轴线(105)对称的，并且其中在垂直于旋转轴线(105)的方向上在旋转轴线(105)与支撑表面(110)的中心部分(112)之间的第一距离(120)小于在旋转轴线(105)与支撑表面(110)的周边(114、116)之间的第二距离(122)。
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公开(公告)号：CN117295843A
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN202280032702.0
申请日：2022-04-18
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C14/56
Abstract: 描述了一种用于传输柔性基板(10)的辊(100)。辊(100)包括主体(101)，具有提供在主体(101)的外表面中的多个气体供应狭缝(103)。多个气体供应狭缝(103)在辊(100)的中心旋转轴线(111)的方向上延伸。此外，辊(100)包括被提供为周向地围绕主体(101)并与主体(101)接触的套筒(104)。套筒(104)具有在径向方向(R)上延伸并被提供在多个气体供应狭缝(103)上方的多个气体出口(105)。
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公开(公告)号：CN112534564A
公开(公告)日：2021-03-19
申请号：CN201880096334.X
申请日：2018-08-07
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯蒂芬·班格特 , 于尔根·亨里奇 , 安德里亚斯·索尔 , 马蒂亚斯·赫曼尼斯 , 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧
IPC: H01L21/677 , H01L51/00
Abstract: 说明了一种用以在真空腔室中沉积材料于基板上的材料沉积设备。这种材料沉积设备包括掩模传送轨道，掩模传送轨道的至少一部份设置于真空腔室中，掩模传送轨道经装配以支撑掩模载体来支承掩模组件，掩模组件具有掩模框架及掩模；掩模平台，经装配以支撑掩模组件；以及支承装置，耦接于掩模平台，及经装配以用于基本上垂直定向的掩模组件的移交或传送。
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公开(公告)号：CN108966661B
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN201780004102.2
申请日：2017-03-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 安德里亚斯·索尔
Abstract: 本公开内容提供一种用于基板(10)的真空处理的设备(100)。此设备(100)包括第一压力区域(110)、第二压力区域(120)、位于第一压力区域(110)与第二压力区域(120)之间的开口(130)、和用以关闭开口(130)的关闭配置(140)。关闭配置包括一或多个第一永久磁铁、一或多个第二永久磁铁、和磁铁装置，磁铁装置装配以改变一或多个第一永久磁铁的磁化。
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公开(公告)号：CN109153254A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201680085819.X
申请日：2016-05-18
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 提供一种用于在真空中连续处理柔性基板的设备(100)。所述设备包括处理辊(110)；具有在处理辊(110)的轴方向中延伸的刮刀(121)的刮刀组件(120)；和经配置而用于使刮刀组件(120)朝向处理辊(110)的表面(111)移动的力传递组件(130)。力传递组件(130)包括用于施加力在刮刀组件(120)上的压力单元(131)和用于施加反力在刮刀组件(120)上的反压力单元(132)。
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