气体处理装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104645779A

    公开(公告)日:2015-05-27

    申请号:CN201510026640.4

    申请日:2007-08-03

    IPC分类号: B01D53/14 B01D53/32

    摘要: 提供一种气体处理装置,该气体处理装置容易管理,维修的频率低,而且可对从半导体制造过程等工业过程排出的各种处理对象气体进行处理,通用性高。气体处理装置(10)具有反应器(12),该反应器(12)围绕大气压等离子体(P)和朝大气压等离子体(P)供给的处理对象气体(F),在其内部进行处理对象气体(F)的热分解;其中特征在于:在反应器(12)设置用于由水(W)覆盖其内面的水供给装置(16)。按照该构成,大致在反应器(12)的内面整体形成所谓的“润湿壁”。为此,可防止处理对象气体(F)中的固体成分接触在反应器(12)的内面而产生附着、堆积,同时,可使该内面的劣化延迟。

    全氟化碳或全氟化物的除害方法及除害装置

    公开(公告)号:CN1341478A

    公开(公告)日:2002-03-27

    申请号:CN00126859.7

    申请日:2000-09-07

    发明人: 今村启志

    IPC分类号: B01D53/70

    CPC分类号: Y02C20/30

    摘要: 提供了一种能够在尽可能低的温度下(消耗的热能少),以高除害率分解除去PFC成分的方法。一种全氟化碳或全氟化物的除害方法,其特征在于在制造设备排出的含有全氟化碳或全氟化物的被处理气体中,混合烃气体或氨气中一种或两种以上气体后,在非氧化性气氛下使上述混合气体热分解。

    气体处理装置及气体处理方法

    公开(公告)号:CN101224406A

    公开(公告)日:2008-07-23

    申请号:CN200710100810.4

    申请日:2007-04-18

    摘要: 本发明提供一种气体处理装置,其采用将氮用作工作气体的大气压等离子体,能够热分解处理对象气体而不副产氮氧化物。对于围绕大气压等离子体P及向大气压等离子体P供给的处理对象气体F、其内部具有进行处理对象气体F的热分解的反应器22、使用氮气作为工作气体G的等离子体分解机12,设置在含有从等离子体分解机12排出的热分解后的处理对象气体F与工作气体G的排气R中不混入氧和水分的状态下,将排气R冷却到至少不生成氮氧化物的温度的冷却部14,从而制成解决了上述课题的气体处理装置10。

    废气处理装置的废气处理塔

    公开(公告)号:CN1243599C

    公开(公告)日:2006-03-01

    申请号:CN01133863.6

    申请日:2001-12-21

    发明人: 今村启志

    IPC分类号: B01D53/70 B01D53/78

    摘要: 一种废气处理塔,当进行半导体废气的高温热分解反应时,该废气处理塔可确保废气分解处理室中使用的电加热器的供电部的绝缘性良好,且可尽可能地降低电加热器通电时的负荷,并将热损耗降至最低。解决的方案是由如下所述部件构成废气处理塔:(a)内部形成有废气分解处理室(1a)的废气处理塔主体(3);(b)安装在废气处理塔主体(3)的底部上的主体底部(4);(c)插入主体底部4且设置在废气处理塔主体(3)内的供气管(6),废气(F)通过该供气管的前端被放入废气分解处理室(1a)内;(d)主体底部4内设有其供电部(8b)且竖立设置在主体底部(4)上的电加热器(7)。

    废气处理装置的废气处理塔及该处理塔所用的电加热器

    公开(公告)号:CN100562355C

    公开(公告)日:2009-11-25

    申请号:CN200510082344.2

    申请日:2001-12-21

    发明人: 今村启志

    IPC分类号: B01D53/70 B01D53/74

    摘要: 一种废气处理塔,当进行半导体废气的高温热分解反应时,该废气处理塔可确保废气分解处理室中使用的电加热器的供电部的绝缘性良好,且可尽可能地降低电加热器通电时的负荷,并将热损耗降至最低。解决的方案是由如下所述部件构成废气处理塔:(a)内部形成有废气分解处理室(1a)的废气处理塔主体(3);(b)安装在废气处理塔主体(3)的底部上的主体底部(4);(c)插入主体底部(4)且设置在废气处理塔主体(3)内的供气管(6),废气(F)通过该供气管的前端被放入废气分解处理室(1a)内;(d)主体底部(4)内设有其供电部(8b)且设立在主体底部(4)上的电加热器(7)。

    气体处理装置
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101541400A

    公开(公告)日:2009-09-23

    申请号:CN200780043055.9

    申请日:2007-08-03

    IPC分类号: B01D53/46 B01J19/08

    摘要: 提供一种气体处理装置,该气体处理装置容易管理,维修的频率低,而且可对从半导体制造过程等工业过程排出的各种处理对象气体进行处理,通用性高。气体处理装置(10)具有反应器(12),该反应器(12)围绕大气压等离子体(P)和朝大气压等离子体(P)供给的处理对象气体(F),在其内部进行处理对象气体(F)的热分解;其中特征在于:在反应器(12)设置用于由水(W)覆盖其内面的水供给装置(16)。按照该构成,大致在反应器(12)的内面整体形成所谓的“润湿壁”。为此,可防止处理对象气体(F)中的固体成分接触在反应器(12)的内面而产生附着、堆积,同时,可使该内面的劣化延迟。