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公开(公告)号:CN118318151A
公开(公告)日:2024-07-09
申请号:CN202280079056.3
申请日:2022-11-29
Applicant: 恩特格里斯公司
Abstract: 一种高压流体存储系统,其具有可执行压力调节器装置的功能的至少一个压力感测装置(PSD)。所述PSD可经由增材制造工艺制造以包含第一及第二单个一体式构造,其中外壳主体及内部压力调节机构在所述工艺期间一起制成。所述PSD可在无任何焊接组件或伸缩管的情况下制成。
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公开(公告)号:CN119137720A
公开(公告)日:2024-12-13
申请号:CN202380037284.9
申请日:2023-05-31
Applicant: 恩特格里斯公司
Abstract: 提供一种用于半导体制造工艺的清洁刷。所述清洁刷包含芯及刷部件。所述芯包含圆周部分及闭端部分。所述圆周部分包围所述清洁刷的旋转轴线且界定用于接收流体的入口开口。所述闭端部分经连接到沿所述旋转轴线与所述入口开口相对的所述圆周部分的端。至少一个细长导管经界定于所述芯内且与所述入口开口流体连通,且所述圆周部分包含穿过其以与所述细长导管流体连通的多个出口通道,所述出口通道朝向所述闭端部分向外倾斜。所述刷部件经连接到所述圆周部分的外表面且覆盖所有所述出口通道。
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公开(公告)号:CN118318126A
公开(公告)日:2024-07-09
申请号:CN202280079053.X
申请日:2022-11-29
Applicant: 恩特格里斯公司
Abstract: 一种高压流体存储系统,其具有可执行压力调节器装置的功能的至少一个压力感测一体式装置(PSUD)。所述PSUD可经制造为单个一体式构造,其中外壳主体及内部压力调节机构两者是由单个单元、材料或两者制成。所述PSUD不具有任何焊接组件,也非由多个单独组件组装而成,或两者。
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公开(公告)号:CN118382774A
公开(公告)日:2024-07-23
申请号:CN202280079396.6
申请日:2022-11-29
Applicant: 恩特格里斯公司
Abstract: 本公开涉及一种高压流体存储系统,其具有可执行压力调节器装置的功能的至少一个压力感测一体式装置(PSUD)。所述PSUD可经制造为单个一体式构造,其中外壳主体及内部压力调节机构两者是由单个单元、材料或两者制成。所述PSUD不具有任何焊接组件,也不是由多个单独组件组装而成,或两者。
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